二次电子图象分辨率:
1.0nm(15KV.WD=4.0mm)
1.6nm(1KV.WD=1.5mm,减速模式)
2.5nm(1KV.WD=1.5mm)
放大倍数:
低放大倍数模式 20-2,000x
高放大倍数模式 100-800,000x
电子光学:
电子枪 ZrO/W 肖特基电子枪
电流 1pA-100nA
加速电压 0.5-30KV(标准模式)
着陆电压 0.1-2.0KV(减速模式)
透镜系统 3级电磁线圈系统
物镜光阑 4孔光阑,真空外选择和细调
样品台:
样品台控制 5轴马达控制
移动范围
X 0-110mm
Y 0-110mm
z 1.5-40mm
T -0.5O-+700
R 360O
样品尺寸 直径150mm(标准)/(zei大) 直径200mm(可选)
Secondary electron image resolution | 1.0nm/15kV; 1.6nm/1kV |
---|---|
Magnification | 20x - 800,000x |
Probe Current | 1 pA - 100 nA |
5 axis motor-drive stage | X,Y: 0-110mm, Z: 1.5 - 40mm, T: -5/+70 deg., R: 360 deg. |
Sample Size | 150mm dia. (standard), 200mm dia. (option) |
Mountable Accessories | EDX, WDX, EBSP, STEM, BSE, CL. cryogenic stage |
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