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Angstrom Dep III等离子体增强原子层沉积系统(PEALD)

tel: 400-6699-117 1000

埃米原子层沉积系统(ALD), 原子层沉积是在一个加热反应的衬底上连续引入至少两种气相前驱体源,化学吸附至表面饱和时自动终止,适当的过程温度阻碍了分子在......

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技术参数:

基片尺寸:4英寸、6英寸、8英寸、12英寸;

加热温度:25℃—400℃(可选配更高);

均匀性: < 1%;

前驱体数:4路(可选配6路);

兼容性: 可兼容100级超净室;

尺寸:950mm x 700mm;

ALD及PE-ALD技术;

 





厂家资料

地址:上海市松花江路251弄白玉兰环保广场7号

电话:400-6699-117 转 1000

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