新型真空镀膜工艺与装备实验室
400-6699-117转1000
实验室简介:
长期聚焦于以等离子体物理为基础的物理气相沉积技术(高功率脉冲磁控溅射HiPIMS、常规溅射技术、阴极弧、离子注入、微弧氧化等)、装备(真空和电源)、模拟计算、工艺与应用的研究,其中工艺部分涉及硬质涂层、装饰涂层、生物涂层、薄膜太阳能电池、薄膜固态锂电池等一系列先进领域。课题组以科研为主线,成果产业化为目标,为国家重大工程装备制造、精密零部件制造、新材料开发等领域提供重大的技术支撑。
实验室主要研究领域:
1、 高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS or HiPIMS)研究与装备开发
2、 基于等离子体物理的材料表面改性与应用涂层开发
3、 锂电池材料界面处理与全固态电池
4、 基于纳米结构的薄膜太阳能电池研究
实验室主要成果展示:
1、真空放电装备开发:
A、高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)研究
HiPIMS-PIID技术的提出
HiPIMS-PIID技术制备CrN涂层界面
新型金属等离子体源的研制
自主设计复合真空处理平台设计与制造
2、特种真空镀膜技术与应用:
抗菌涂层
3、锂电池材料界面处理与全固态电池:
去极化“全活性电极”设计与制备
去极化电极充放电性能
电化学原位界面调控法——提前放电
提前放电与否电化学性能(a)未放电样品;(b)提前放电样品;(c)循环性能对比;(d)倍率性能对比
4、基于纳米结构的薄膜太阳能电池研究:
插入式背电极复合结构