冷冻蚀刻的概念和应用
冷冻蚀刻是指将标本置于-100˚C的干冰或-196˚C的液氮中进行冰冻，然后用冷刀将标本断开，升温后冰在真空条件下迅即升华，暴露出断面结构。
蚀刻后，向断面以45度角喷涂一层蒸汽铂，再以90度角喷涂一层碳，加强反差和强度。然后用次氯酸钠溶液消化样品，把碳和铂的膜剥下来，此膜即为复膜（replica）。复膜显示出了标本蚀刻面的形态，在电镜下得到的影像即代表标本中细胞断裂面处的结构。
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冷冻蚀刻是指将标本置于-100˚C的干冰或-196˚C的液氮中进行冰冻，然后用冷刀将标本断开，升温后冰在真空条件下迅即升华，暴露出断面结构。
蚀刻后，向断面以45度角喷涂一层蒸汽铂，再以90度角喷涂一层碳，加强反差和强度。然后用次氯酸钠溶液消化样品，把碳和铂的膜剥下来，此膜即为复膜（replica）。复膜显示出了标本蚀刻面的形态，在电镜下得到的影像即代表标本中细胞断裂面处的结构。
