软X射线的发展背景
软X射线投影光刻技术是现有可见-近紫外投影光刻技术向软X射线波段(1～30nm)的延伸。但是，由于此波段任何材料的折射率均接近于1，而且吸收较大，微缩投影光学系统必须采用反射系统，而单层膜反射镜对正入射软X 射线的反射率几乎为零，无法利用其组成正入射系统。70年代后，随着超光滑表面加工技术和超薄膜制备技术的不断提高，目前人们制备的13nm Mo/Si多层膜反射率已接近70%，这使人们利用多层膜反射镜集成软X射线投影光刻系统成为可能。
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