简介磁致溅射仪的制备优点
不仅可以得到很高的溅射速率，而且在溅射金属时还可以避免二次电子轰击而使基板保持接近冷态，这对单晶和塑料基板具有重要的意义。磁控溅射可以用DC和RF放电工作，故能制备金属膜和介质膜。但是它的缺点是：不能实现强磁性材料的低温高速溅射，因为几乎所有的磁通都通过磁性靶子，所以在靶面附近不能外加强磁场；绝缘靶会使基板温度上升；靶子的利用率低，这是由于靶子的侵蚀不均匀的缘故。
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不仅可以得到很高的溅射速率，而且在溅射金属时还可以避免二次电子轰击而使基板保持接近冷态，这对单晶和塑料基板具有重要的意义。磁控溅射可以用DC和RF放电工作，故能制备金属膜和介质膜。但是它的缺点是：不能实现强磁性材料的低温高速溅射，因为几乎所有的磁通都通过磁性靶子，所以在靶面附近不能外加强磁场；绝缘靶会使基板温度上升；靶子的利用率低，这是由于靶子的侵蚀不均匀的缘故。
