二次离子质谱是一种具有超高分辨率和灵敏度的固体表面分析技术。它可以分析氢元素到铀元素在内的所有元素和同位素，还可以得到固体表面官能团和分子结构等信息。SIMS可以分为静态SIMS（SSIMS）和动态SIMS（DSIMS）两种类型，通过不同扫描类型，得到二次离子质谱图、化学成像、动态深度剖析曲线等。

　　原理是利用具有一定能量的初级离子束轰击固体材料表面，再利用质谱分析检测被初级离子束溅射出的二次离子的质荷比，从而得到样品信息。如今应用在SIMS中最广泛的质谱检测器是飞行时间质谱仪（TOF），TOF-SIMS的分辨率可以达到104，微区分辨率达到100nm2，深度分辨率达到1nm，二次离子浓度灵敏度达到ppm级别。微源检测可以提供德国ION-TOF先进TOF-SIMS仪器检测，为客户提供完善的SIMS技术解决方案。

　　以其各种优异的性能和特点SIMS技术被广泛地用于半导体行业，半导体硅晶片制程的越来越小，SIMS逐渐成为分析半导体器件表面沾污缺陷、研究元素掺杂等不可替代的手段。除此之外，SIMS的应用近年来也不断发展到生物医药、材料、化学等领域。