第六届薄膜物理与应用国际会议在上海交大召开
由中国物理学会和上海市物理学会主办，上海交通大学物理系承办的第六届薄膜物理与应用国际会议于2007年9月26日至28日在上海交通大学浩然高科技大厦召开。来自美国、俄罗斯、日本、英国、韩国和中国的专家学者以及研究生160多人参加了此次会议。校长张杰院士和中科院上海技术物理研究所褚君浩院士担任此次会议的大会主席；长江学者沈文忠教授担任组委会主席。在开幕式上叶取源常务副校长做了大会致辞。
本次国际会议包括2个大会报告、15个邀请报告、34个口头报告和111个张贴报告。俄罗斯科学院半导体所副所长A. V. Dvurechenskii教授与清华大学薛其坤院士做了大会报告。《Journal of Crystal Growth》杂志主编、美国威斯康星大学麦迪逊分校的T. F. Kuech教授，日本大阪大学的T. Sugino教授等做了邀请报告。会议前期对会议报告做了严格的预评审以保证会议质量，论文全文将在严格审稿之后在国际光学工程学会《SPIE Proceedings》上以会议论文集的形式出版，并在全球发行。会议对薄膜物理科学创新和发展起到了推动作用，得到国内外专家学者的高度赞扬。
近年来，薄膜技术的应用已渗透至国民经济和科技的各个领域，最为广泛的应用就是半导体产业。整个半导体制造就是先进薄膜工艺的集合，因此薄膜材料及相关的技术研究引起了世界各国科学家的广泛关注。每三年一届的薄膜物理与应用国际会议，正是为从事薄膜技术和产品研发的专业人员提供了交流薄膜最新技术与发展动向的平台，从而推进薄膜技术不断进步。现在它不仅仅是国内组织举办的薄膜物理及应用方面重要的国际盛会和重要学术论坛，也是国际光学工程学会SPIE旗下的国际重要系列会议之一。
此次会议报告了薄膜理论、薄膜材料、薄膜生长技术和薄膜应用等四个方面国际最前沿进展。会议期间讨论热烈、学术气氛浓厚，对于中国薄膜物理与应用领域的发展以及国际学术交流和合作起到了积极的作用，同时也扩大了上海交通大学物理系在国际物理界尤其是薄膜物理和应用领域方面的影响。
本次国际会议包括2个大会报告、15个邀请报告、34个口头报告和111个张贴报告。俄罗斯科学院半导体所副所长A. V. Dvurechenskii教授与清华大学薛其坤院士做了大会报告。《Journal of Crystal Growth》杂志主编、美国威斯康星大学麦迪逊分校的T. F. Kuech教授，日本大阪大学的T. Sugino教授等做了邀请报告。会议前期对会议报告做了严格的预评审以保证会议质量，论文全文将在严格审稿之后在国际光学工程学会《SPIE Proceedings》上以会议论文集的形式出版，并在全球发行。会议对薄膜物理科学创新和发展起到了推动作用，得到国内外专家学者的高度赞扬。
近年来，薄膜技术的应用已渗透至国民经济和科技的各个领域，最为广泛的应用就是半导体产业。整个半导体制造就是先进薄膜工艺的集合，因此薄膜材料及相关的技术研究引起了世界各国科学家的广泛关注。每三年一届的薄膜物理与应用国际会议，正是为从事薄膜技术和产品研发的专业人员提供了交流薄膜最新技术与发展动向的平台，从而推进薄膜技术不断进步。现在它不仅仅是国内组织举办的薄膜物理及应用方面重要的国际盛会和重要学术论坛，也是国际光学工程学会SPIE旗下的国际重要系列会议之一。
此次会议报告了薄膜理论、薄膜材料、薄膜生长技术和薄膜应用等四个方面国际最前沿进展。会议期间讨论热烈、学术气氛浓厚，对于中国薄膜物理与应用领域的发展以及国际学术交流和合作起到了积极的作用，同时也扩大了上海交通大学物理系在国际物理界尤其是薄膜物理和应用领域方面的影响。
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