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薄膜应力研究的重要性

2018.8.27

薄膜应力研究的重要性
  光学多层膜系统已经广泛的应用于微电子系统,光学系统等,而由于薄膜应力的存在,对系统的功能与可*性产生很大的影响,它不仅会直接导致薄膜的龟裂、脱落,使薄膜损坏,而且会作用基体,使基体发生形变,从而使通过薄膜组件的光波前发生畸变,影响传输特性。更重要的是,薄膜在激光辐照下,由于应力的存在,加速了薄膜内热力耦合作用,是其破坏的敏感因素[1],因此很有必要研究光学多层膜系统中的残余应力,并设法控制其发展。
2 薄膜应力的成因
  薄膜应力主要包括热应力与生长应力:热应力是当薄膜从沉积温度冷却到室温的过程中,由于薄膜与基底的热膨胀系数不同引起的;生长应力存在于所有镀膜方法(如真空蒸发、阴极溅射或气相沉积)制作的薄膜中,其zui大值可达109N/m2。它的大小与由薄膜和基底材料以及制备工艺条件有关。

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