氩离子束抛光系统消除您的实验室苦恼

　　氩离子束抛光系统是在Gatan公司经典的691离子减薄仪技术上发展而来。它的问世改变了此前人们用手动或机械研磨的方法对样品进行研磨抛光的局限性。

　　氩离子抛光系统采用两支具有低能聚集的小型潘宁离子枪，可提供快速柔和的抛光效果。低至100eV的离子束提供更柔和的抛削效果，用于样品的终极抛光。新型低能聚焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持恒定。每个枪都可准确独立地将离子束对中在样品上，从而产生极高的离子抛光速率。在操作过程中，可随时改变枪的角度。通过控制气体流量可将枪电流变化范围控制在0~100mA之间。在触摸屏上通过手动或者自动方式调节气体流量使每个枪的工作电流得到最优化。

　　它应用领域广泛EBSD 样品、光伏、半导体、金属(氧化物, 合金)行业、陶瓷行业

　　地质样品，油页岩、 高分子，聚合物 CL等。

　　氩离子束抛光系统进行抛光加工的材料种类十分广泛，包括由多元素组成的试样，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。

　　氩离子束抛光系统操作简易科学，在实验室EBSD样品的制备中完全消除了EBSD样品达不到标定率的苦恼。

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