场发射枪扫描电子显微镜的主要用途
主要用途： 适用于 金属、 陶瓷、 半导体、 矿物、 生物、 高分子、 复合材料和 纳米级一维、二维和三维材料的表面形貌进行观察（二次电子像、背散射电子像）； 可进行微区的点、线、面成分分析； 指定元素在形貌上成象； 晶体材料的晶体取向及微区取向分析、结构分析、正反极图、欧拉空间分析等； 图象定量分析(%)
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主要用途： 适用于 金属、 陶瓷、 半导体、 矿物、 生物、 高分子、 复合材料和 纳米级一维、二维和三维材料的表面形貌进行观察（二次电子像、背散射电子像）； 可进行微区的点、线、面成分分析； 指定元素在形貌上成象； 晶体材料的晶体取向及微区取向分析、结构分析、正反极图、欧拉空间分析等； 图象定量分析(%)
