真空抽滤法制备石墨烯基膜
真空抽滤法是制备石墨烯基膜最为常用的方法，其主要过程如下: 先将石墨烯或氧化石墨烯分散液倒入垫好滤膜的抽滤瓶中，再进行真空抽滤，从而使薄膜附着在底膜上。
Dikin等首次利用抽滤的方法制备了厚度为1～30μm的氧化石墨烯薄膜，力学测试表明GO薄膜模量高达32 GPa，这一强度远高于传统的薄膜。随后，Li等将真空抽滤法制得的化学还原石墨烯（CCG）膜应用于压力驱使下的液相分离。实验表明在90 ℃还原条件下，水通量达到41L·m-2·h-1·bar-1，且纳米金和纳米铂颗粒基本被拦截。Huang等通过真空抽滤法在聚碳酸酯（PC）膜上得到GO超滤分离膜。研究发现GO片层间的纳米级褶皱是离子、分子的主要通道，通过控制外加压力、盐浓度以及pH值可调节褶皱尺寸，以实现对GO分离膜孔道结构和分子筛分性能的直接调控。GO表面含氧官能团使其片层间距较大，不利于小分子截留，因此，通过还原去除表面官能团后可进一步减小其片层间距继而增加截留性能。
真空抽滤法操作简单、底膜选择多样、膜厚度可通过溶液浓度进行调控。此方法制得的薄膜机械性能好、分离性能优异，但是在与底膜分离过程中薄膜容易破损，完整性难以维持。
推荐
