TEM制样:薄膜制备技术
薄膜制备技术
样品要求:
1、薄膜应对电子束“透明”,制得的薄膜应当保持与大块样品相同的组织结构。
2、薄膜得到的图像应当便于分析,所以即使在高压电子显微镜中也不宜采用太厚的样品,减薄过程做到尽可能的均匀.薄膜应具有适当的强度和刚性 。
3、薄膜制备方法必须便于控制,具备足够的可靠性和重复性。
样品制备:
1、线切割:制备厚度约0.20-0.30mm的薄片。
2、机械研磨预减薄:用金相砂纸研磨至100μm 左右,不可太薄防止损伤贯穿薄片。
3、化学抛光预减薄:从圆片的一侧或两则将圆片中心区域减薄至数100μm左右;从薄片上切取直径为3mm的圆片。
4、电解抛光最终减薄。
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