离子源—电感耦合等离子体
ICP-MS中使用的ICP系统和ICP-AES中使用的ICP系统差不多，仅有很小的改动。在ICP-MS中，炬管改为水平放置，为了控制等离子体相对于接地质谱系统的电位，对耦合负载线圈的接地点做了一些改变，以消除等离子体和接口之间的二次放电现象。这种二次放电现象将引起许多问题，如双电荷干扰离子的增加、离子动能扩散、采样锥离子的产生、锥的寿命减少等。
有关等离子体炬管以及射频发生器等较为详尽的内容请参考第8章8.2.1.1和8.2.1.2。
需要注意的是，ICP-MS使用的氩气的纯度非常重要，最好使用高纯(99.99%以上)氩气。氩气纯度差时，其所含的杂质气体会对有些同位素产生质谱干扰。
ICP-MS对离子源的要求是：易于点火；功率稳定性高；发生器的耦合效率高；对来自样品基体成分或不同挥发性溶剂引起的阻抗变化的匹配补偿能力强。
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