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应用案例 | 微小零件的微纳镀层截面CP制备方法

领拓仪器
2022.10.28


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机械零部件通过表面加工技术,可使其获得良好的力学性能、优异的光学性能或者提高其对复杂的工作环境的耐受能力。通过各种喷涂、沉积等方法获得镀层是实现零部件表面性能提升的重要手段。

获得镀层后,其厚度、均匀性、界面结合情况等信息,可通过对其进行适当的截面制备来获得。其中CP可完美地制备微米、甚至纳米级别的镀层截面。

因此本次试验以某毫米探针部件为样品,通过离子束切割获得无损的平整面,以满足后续的SEM测试与分析。原试样(尺寸不超过4mm)如下图所示,需要测量箭头所指平面的镀层厚度,指定位置在任意方向直径1/4处。




f0304f09c3b815c7049522e5320a3b30.png图1. 试样原貌


制备流程




镶嵌

将样品镶嵌成约14X5X3mm大小的尺寸,如下图2所示。


92050c830c2a0b22f522219675d2327c.png图2. 镶嵌后的试样


机械研磨

样品极小,用普通研磨机难以高效精准定位加工,因此使用徕卡精研一体机Leica EM TXP对样品进行预处理,处理流程示意图如下:

1

样品截面加工


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图3. 样品离子束加工前的TXP机械加工流程

左:样品原始形貌,红点为目标点;

左二:TXP加工去掉的多余截面部分;

右二:TXP加工去掉的多余侧面部分;

右:TXP机械加工完成后


使用徕卡EM TXP扁平样品夹固定样品,通过TXP加工截面,使目标位置与截面距离控制在20-100um范围内,流程如下图:


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图4. TXP加工截面流程图

2

样品坡面加工


使用徕卡EM TXP插件样品夹固定样品,调节样品臂角度为-10°,通过TXP加工坡面,使目标位置与坡面距离控制在20-50um范围内,流程如下图:


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图5. TXP加工侧面流程图





样品离子束加工

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图6. TXP加工后的样品离子束加工时的示意图


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图7. 徕卡EM TIC3X样品装夹示意图





样品离子束加工结果

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图8. 徕卡EM TIC3X离子束加工效果(SEM)




小结

1、样品极小,形状不是简单的长方体状,且指定测试位置在样品内部,需用树脂镶嵌成易处理的长方体状后切割。尽量选用与样品切割速率相近的镶嵌树脂。

2、预处理用徕卡精研一体机EM TXP代替普通研磨机更高效精准,形状尺寸按图3所示加工后,才可大大提高离子束加工速率。

3、镀层极薄,仅需沿厚度方向加工约30um即可。



本次试验所用设备如下


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Leica EM TXP 精研一体机

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Leica EM TIC3X离子束切割抛光仪


-END-


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