JB/T 5575-1991
真空蒸发光学镀膜设备 技术条件
Technical conditions of vacuum evaporation optical coating equipment
JBT5575-1991, JB5575-1991
- 标准号
- JB/T 5575-1991
- 别名
- JBT5575-1991, JB5575-1991
- 发布
- 1991年
- 发布单位
- 行业标准-机械
- 当前最新
- JB/T 5575-1991
JB/T 5575-1991相似标准
推荐
光学玻璃的种类及其镀膜方法介绍
2.真空蒸发镀膜玻璃的品种和质量与磁控溅射镀膜玻璃相比均存在一定差距，已逐步被真空溅射法取代。 3.化学气相沉积法是在浮法玻璃生产线上通入反应气体在灼热的玻璃表面分解，均匀地沉积在玻璃表面形成镀膜玻璃。该方法的特点是设备投入少、易调控，产品成本低、化学稳定性好，可进行热加工，是更有发展前途的生产方法之一。 ...
为什么溅射原子的能量大于蒸发原子的许多倍
溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比，有许多优点。如任何物质均可以溅射，尤其是高熔点，低蒸气压的元素和化合物；溅射膜与基板之间的附着性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比较复杂，需要高压装置。此外，将蒸发法与溅射法相结合，即为离子镀。这种方法的优点是得到的膜与基板间有极强的附着力，有较高的沉积速率，膜的密度高。...
薄膜应力研究的重要性
2 薄膜应力的成因 薄膜应力主要包括热应力与生长应力：热应力是当薄膜从沉积温度冷却到室温的过程中，由于薄膜与基底的热膨胀系数不同引起的；生长应力存在于所有镀膜方法（如真空蒸发、阴极溅射或气相沉积）制作的薄膜中，其zui大值可达109N/m2。它的大小与由薄膜和基底材料以及制备工艺条件有关。...
解决方案 | UV-8000分光光度计探究半导体ZAO薄膜的光学性能
目前生成ZAO薄膜的工艺方法有：磁控溅射法真空蒸发镀膜法溶胶-凝胶法激光分子束外延法金属有机化学沉积法脉冲激光沉积法和超声喷雾热解法其中磁控溅射法相较于其他工艺具有薄膜沉积速度快，工艺步骤简单，仪器设备能耗低，低温下可大面积连续均匀镀膜，适用于大批量生产制造的优点。本文采用磁控溅射法在衬底上制备ZAO薄膜，并重点分析了ZAO薄膜的光学性能。...