JIS K0143-2000
表面化学分析.次级离子质谱法.利用均匀掺杂材料测定硅中硼原子浓度

Surface chemical analysis -- Secondary ion mass spectrometry -- Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials

标准号

JIS K0143-2000

发布日期

2000年07月20日

实施日期

废止日期

无

中国标准分类号

G04

国际标准分类号

71.040.40

发布单位

JP-JISC

适用范围

この規格は，ボロンを注入して作製した認証標準試料で校正した均一添加試料を用いて，単結晶シリコン中のボロンの原子濃度を決定するための二次ィオン質量分析法を規定する。濃度範囲として1×10<上16>atoms/cm<上3>から1×10<上20>atoms/cm<上3>の範囲の均一に添加されたボロンの濃度を決定する場合にこの方決を用いる。

JIS K0143-2000 中可能用到的仪器设备

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