GB/T 19922-2005
硅片局部平整度非接触式标准测试方法
Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning
GBT19922-2005, GB19922-2005
- 标准号
- GB/T 19922-2005
- 别名
- GBT19922-2005, GB19922-2005
- 发布
- 2005年
- 发布单位
- 国家质检总局
- 当前最新
- GB/T 19922-2005
- 引用标准
- ASTM F1530-94 GB/T 14264
- 适用范围
- 本标准规定了用电容位移传感法测定硅片表面局部平整度的方法。 本标准适用非接触、非破坏性地测量干燥、净洁的半导体硅片表面的局部平整度。适用于直径100 mm及以上、厚度250μm及以上的腐蚀、抛光及外延硅片。
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