ASTM F2113-01e1
薄膜电子设备用高纯度金属溅涂靶杂质含量和等级的分析和报告标准指南

Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications

被代替

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标准号

ASTM F2113-01e1

发布

2001年

发布单位

美国材料与试验协会

替代标准

ASTM F2113-01(2007)

当前最新

ASTM F2113-01(2011)

 

 

适用范围

1.1 本指南涵盖在制造半导体电子器件时用作薄膜源材料的溅射靶材。它应用于制定特定材料的目标规格并应在其中引用。
1.2 本标准规定了纯度等级水平、分析方法和杂质含量报告方法和格式。
1.2.1 等级名称是总金属杂质含量的度量。牌号名称不一定表明适合特定应用，因为总金属杂质以外的因素可能会影响性能。

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