该测试方法提供了一种测试，用于确定当整个 X 射线系统的任何单个组件（例如屏幕）发生变化时，射线照相胶片暴露于 4 至 25 MeV X 射线时的相对图像质量响应。通过保持技术参数（曝光时间除外）和处理参数恒定，可以在相对基础上评估射线照相胶片的图像质量响应。或者，该测试方法提供了用于测量 X 射线系统或系统任何组件的图像质量的测试。 1.1 本测试方法涵盖工业射线照相胶片暴露于光子能量为 4 至 25 MeV 的 X 辐射源时的相对图像质量响应的测定。胶片的评估基于特殊图像质量指标 (IQI) 中孔的可见度。由于给定胶片类型的结果可能会有所不同，具体取决于所使用的特定处理系统和处理条件，因此必须说明曝光参数和达到的密度、处理化学物质、处理周期和处理温度。出于本测试方法的目的，假设 X 射线系统的所有组件都正常运行并且能够产生给定的图像质量。该测试方法不适用于使用钴 60 源或低于 4 MeV 的 X 射线源曝光的胶片。 1.2 以 SI 或英寸-磅单位表示的值应视为标准。括号中给出的值仅供参考。本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。