GB/T 1554-2009
硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法

Testing method for crystallographic perfection of silicon by preferential etch techniques


GB/T 1554-2009 中,可能用到以下试剂

 

氧化锗 SP

氧化锗 SP

上海阿拉丁生化科技股份有限公司

 

FILTER, DISPOSABLE WITH LUER*FITTING, MI LLEX-HA,

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上海安谱科学仪器有限公司

 

FILTER, DISPOSABLE WITH LUER*FITTING, MI LLEX-AP,

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上海安谱科学仪器有限公司

 

FILTER, DISPOSABLE WITH LUER*FITTING, MI LLEX-PF,

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上海安谱科学仪器有限公司

 

BIOBOND-PLUS MEMBRANE, 15 CM X 20 CM SHE ET

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上海安谱科学仪器有限公司

 

GB/T 1554-2009



标准号
GB/T 1554-2009
发布日期
2009年10月30日
实施日期
2010年06月01日
废止日期
中国标准分类号
H80
国际标准分类号
29.045
发布单位
CN-GB
引用标准
GB/T 14262-1993 YS/T 209-1994
被代替标准
GB/T 1554-1995
适用范围
本标准规定了择优腐蚀技术检验硅晶体完整性的方法。 本标准适用于晶向为<111>、<100>或<110>、电阻率为10Ω•m~10Ω•m、位错密度在0cm~10cm之间的硅单晶锭或硅片中原生缺陷的检验。 本方法也适用于硅单晶片。

GB/T 1554-2009系列标准


GB/T 1554-2009 中可能用到的仪器设备


谁引用了GB/T 1554-2009 更多引用





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