GB/T 4058-2009
硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法

Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers


标准号
GB/T 4058-2009
发布日期
2009-10-30
实施日期
2010-06-01
废止日期
中国标准分类号
H80
国际标准分类号
29.045
发布单位
CN-GB
引用标准
GB/T 1554 GB/T 14264 YS/T 209
被代替标准
GB/T 4058-1995
适用范围
本标准规定了硅抛光氧化绣生缺陷的检验方法。 本标准适用于硅抛光片表面区在模拟器件氧化工艺中绣生或增强的晶体缺陷的检测。 硅单晶氧化绣生缺陷的检验也可参照此方法。

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