GB/T 4058-2009
硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法

Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers

GBT4058-2009, GB4058-2009


标准号
GB/T 4058-2009
别名
GBT4058-2009, GB4058-2009
发布
2009年
发布单位
国家质检总局
当前最新
GB/T 4058-2009
 
 
引用标准
GB/T 14264 GB/T 1554 YS/T 209
被代替标准
GB/T 4058-1995
适用范围
本标准规定了硅抛光氧化绣生缺陷的检验方法。 本标准适用于硅抛光片表面区在模拟器件氧化工艺中绣生或增强的晶体缺陷的检测。 硅单晶氧化绣生缺陷的检验也可参照此方法。

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