GB/T 6621-2009
硅片表面平整度测试方法

Testing methods for surface flatness of silicon slices

GBT6621-2009, GB6621-2009


GB/T 6621-2009


标准号
GB/T 6621-2009
别名
GBT6621-2009
GB6621-2009
发布
2009年
发布单位
国家质检总局
当前最新
GB/T 6621-2009
 
 
被代替标准
GB/T 6621-1995
本标准规定了用电容位移传感器测定硅抛光片平整度的方法,切割片、研磨片、腐蚀片也可参照此方法。 本标准适用于测量标准直径76mm,100mm,125mm,150mm,200mm,电阻率不大于200Ω•cm厚度不大于1000μm的硅抛光片的表面平整度和直观描述硅片表面的轮廓形貌。

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