GB/T 14139-2009
硅外延片

Silicon epitaxial wafers


GB/T 14139-2009 中,可能用到以下仪器

 

微分干涉相衬显微镜

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北京创诚致佳科技有限公司

 

粉末电阻率测试仪(四探针法)

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北京冠测精电仪器设备有限公司

 

四探针半导体粉末电阻率测试仪

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北京冠测精电仪器设备有限公司

 

GB/T 14139-2009



标准号
GB/T 14139-2009
发布日期
2009年10月30日
实施日期
2010年06月01日
废止日期
中国标准分类号
H80
国际标准分类号
29.045
发布单位
国家质检总局
引用标准
GB/T 2828.1-2003 GB/T 6617-2009 GB/T 6624-2009 GB/T 12962-2005 GB/T 12964-2003 GB/T 13389-1992 GB/T 14141-2009 GB/T 14142-1993 GB/T 14145-1993 GB/T 14246.1-1993 GB/T 14847-1993 YS/T 24-1992
被代替标准
GB/T 14139-1993
适用范围
本标准规定了硅外延片的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输及贮存。 本标准适用于在N型硅抛光片衬底上生长的n型外延层(N/N)和在p型硅抛光片衬底上生长的P型外延层(P/P)的同质硅外延层,产品主要用于制作硅半层体器件。其他类型的硅外延片可参照使用。

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