关键词Plasma 3000,Plasma 2000,工业硅,耐氢氟酸进样系统国家产品标准GB/T2881-2014《工业硅》中规定,检测工业硅中杂质元素采用电感耦合等离子体发射光谱仪测定。本实验参照标准GB/T14849.4-2014《工业硅化学分析方法第四部分:杂质元素含量测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法》测定工业硅中铝、铬、钙、硼、铜、铁、镁、镍、锰、磷、钠、钛的元素含量。...
本部分适用于掺锡氧化铟粉中铁、铝、铅、镍、铜、镉、铬和铊含量的测定。测定范围:0.000 5 %~0.010 %。9 YS/T 1344.2-2020掺锡氧化铟粉化学分析方法 第2部分:硅含量的测定 钼蓝光度法 本部分规定了掺锡氧化铟粉中硅含量的测定方法。 本部分适用于掺锡氧化铟粉中硅含量的测定。测定范围:0.000 5 %~0.010 %。...
5 YB/T 4174.1-2022硅钙合金分析方法 第1部分:铝含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 本文件规定了电感耦合等离子体原子发射光谱法测定硅钙合金中铝含量的方法。 本文件适用于硅钙合金中铝含量的测定,测定范围(质量分数):0.10%~5.00%。...
第1部分:耐磨性的测定GB/T 12967.1-2008,GB/T 12967.2-2008,GB/T 12967.7-20102021-05-0113GB/T 20975.10-2020铝及铝合金化学分析方法 第10部分:锡含量的测定GB/T 20975.10-20082021-05-0114GB/T 20975.12-2020铝及铝合金化学分析方法 第12部分:钛含量的测定GB/T 20975.12...
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