YS/T 839-2012
硅衬底上绝缘体薄膜厚度及折射率的椭圆偏振测试方法

Test method for measurement of insulator thickness and refractive index on silicon substrates by ellipsometry

YST839-2012, YS839-2012


标准号
YS/T 839-2012
别名
YST839-2012, YS839-2012
发布
2012年
发布单位
行业标准-有色金属
当前最新
YS/T 839-2012
 
 
适用范围
本方法规定了用椭圆偏振测试方法测量生长或沉积在硅衬底上的绝缘体薄膜厚度及折射率的方法。 本方法适用于薄膜对测试波长没有吸收和衬底对测试波长处不透光、且已知测试波长处衬底折射率和消光系数的绝缘体薄膜厚度及折射率的测量。对于非绝缘体薄膜,满足一定条件时,方可采用本方法。

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