YS/T 935-2013
电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
Standard guide for analysis and reporting the impurity content and grade of high purity metallic sputtering targets for electronic thin film applications
YST935-2013, YS935-2013
- 标准号
- YS/T 935-2013
- 别名
- YST935-2013, YS935-2013
- 发布
- 2013年
- 发布单位
- 行业标准-有色金属
- 当前最新
- YS/T 935-2013
- 引用标准
- GB/T 14265 GB/T 20975.1 GB/T 20975.10 GB/T 20975.11 GB/T 20975.12 GB/T 20975.13 GB/T 20975.14 GB/T 20975.15 GB/T 20975.16 GB/T 20975.17 GB/T 20975.18 GB/T 20975.19 GB/T 20975.2 GB/T 20975.20 GB/T 20975.21 GB/T 20975.22 GB/T 20975.23 GB/T 20975.24 GB/T 20975.25 GB/T 20975.26 GB/T 20975.27 GB/T 20975.28 GB/T 20975.29 GB/T 20975.3 GB/T 20975.30 GB/T 20975.31 GB/T 20975.32 GB/T 20975.33 GB/T 20975.34 GB/T 20975.35 GB/T 20975.36 GB/T 20975.37 GB/T 20975.4 GB/T 20975.5 GB/T 20975.6 GB/T 20975.7 GB/T 20975.8 GB/T 20975.9 GB/T 29658 YS/T 871 YS/T 922
- 适用范围
- 本标准规定了电子薄膜制备用高纯金属建设靶材的纯度等级的定义方法、杂质含量分析方法、抽样规则及靶材纯度等级报告标准规范等内容。本标准适用于电子薄膜用各类高纯金属溅射靶材(以下简称靶材)。其他对纯度有较高要求的靶材纯度等级、杂质含量分析及报告规范也可参照使用。
YS/T 935-2013相似标准
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