ISO 17109:2015
表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法

Surface chemical analysis - Depth profiling - Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films

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表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法 不是强制性中国国家标准，您可以免费下载预览页

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标准号: ISO 17109:2015
发布: 2015年
中文版: GB/T 41064-2021 (等同采用的中文版本)
发布单位: 国际标准化组织
替代标准: ISO 17109:2022
当前最新: ISO 17109:2022

引用标准: ISO 14606:2000 ISO 18115:2001 ISO/TR 15969:2001

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