半导体 光
本专题涉及半导体 光的标准有164条。
国际标准分类中，半导体 光涉及到无机化学、光电子学、激光设备、陶瓷、光纤通信、光学和光学测量、电灯及有关装置、表面处理和镀涂、医疗设备、半导体材料、辐射测量、半导体分立器件。
在中国标准分类中，半导体 光涉及到无机盐、红外器件、特种陶瓷、光电子器件综合、光学计量、光通信设备、半导体分立器件综合、催化剂、日用玻璃、陶瓷、搪瓷、塑料制品综合、医用超声、激光、高频仪器设备、半金属及半导体材料分析方法、半导体发光器件、元素半导体材料、半导体光敏器件。
国家质检总局，关于半导体 光的标准
- GB/T 29856-2013 半导体性单壁碳纳米管的近红外光致发光光谱表征方法
- GB/T 18904.1-2002 半导体器件 第12-1部分;光电子器件 纤维光学系统或子系统用带/不带尾纤的光发射或红外发射二极管空白详细规范
法国标准化协会，关于半导体 光的标准
- NF B44-101-5-2021 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能的试验方法. 第5部分: 甲硫醇的清除
- NF B44-101-4-2021 精细陶瓷 (现代陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能的试验方法. 第4部分: 甲醛的清除
- NF C96-005-5/A1-2015 半导体设备. 分离式设备. 第5-5部分: 光电设备. 光耦合器
- NF B44-105-2013 细陶瓷 (现代陶瓷, 高级工业陶瓷) - 室内照明环境下使用的半导体光催化材料的测试光源
- NF B44-101-4-2013 细陶瓷 (现代陶瓷, 高级工业陶瓷) - 半导体光催化材料空气净化性能的试验方法 - 第4部分: 甲醛的清除
- NF B44-101-5-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.第5部分:甲硫醇的清除
- NF B44-103-2011 细瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).测试半导体光催化材料所用的紫外光源.
国际标准化组织，关于半导体 光的标准
- ISO 22197-4:2021 精细陶瓷（高级陶瓷 高级技术陶瓷） - 半导体光催化材料的空气净化性能测试方法 - 第4部分:去除甲醛
- ISO 22197-5:2021 精细陶瓷（高级陶瓷 高级技术陶瓷） - 半导体光催化材料的空气纯化性能测试方法 - 第5部分:去除甲硫醇
- ISO 22197-4-2021 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能的试验方法. 第5部分: 甲醛的清除
- ISO 22197-5-2021 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能的试验方法. 第5部分: 甲硫醇的清除
- ISO 22551-2020 精细陶瓷（高级陶瓷 高级工业陶瓷）.室内照明环境下用半导体光催化材料测定细菌还原率.估算实际环境细菌污染表面抗菌活性的半干法
- ISO 22197-2-2019 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 半导体光催化材料的空气净化性能试验方法 - 第2部分:去除乙醛
- ISO 22197-3-2019 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 半导体光催化材料的空气净化性能试验方法 - 第3部分:去除甲苯
- ISO 22601-2019 精细陶瓷（高级陶瓷 高级工业陶瓷）.通过定量分析总有机碳（TOC）测定半导体光催化材料苯酚氧化分解性能的试验方法
- ISO 27447-2019 精细陶瓷（高级陶瓷 高级工业陶瓷）.半导体光催化材料抗菌活性的试验方法
- ISO 17168-3:2018 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 室内照明环境下半导体光催化材料空气净化性能试验方法 - 第3部分:去除甲苯
- ISO 17168-4:2018 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 室内照明环境下半导体光催化材料空气净化性能试验方法 - 第4部分:去除甲醛
- ISO 17168-1:2018 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 室内照明环境下半导体光催化材料空气净化性能试验方法 - 第1部分:去除一氧化氮
- ISO 17168-5:2018 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 室内照明环境下半导体光催化材料空气净化性能试验方法 - 第5部分:去除甲硫醇
- ISO 19810-2017 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下半导体光催化材料自清洁性能的试验方法. 水接触角测量
- ISO 19722:2017 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 溶解氧消耗测定半导体光催化材料的光催化活性试验方法
- ISO 19722-2017 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 采用溶氧消耗法测定半导体光催化材料光催化活性的试验方法
- ISO 19722-2017 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 采用溶氧消耗法测定半导体光催化材料光催化活性的试验方法
- ISO 22197-1-2016 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能试验方法. 第1部分: 一氧化氮净化
- ISO 22197-1-2016 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能试验方法. 第1部分: 一氧化氮净化
- ISO 18071:2016 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 室内照明环境下半导体光催化材料的抗病毒活性测定 - 使用噬菌体Q-beta
- ISO 18071-2016 精细陶瓷 (高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下半导体光催化材料的抗病毒活性的测定. 采用噬菌体Q-β的试验方法
- ISO 19635:2016 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） 半导体光催化材料的反相活性试验方法
- ISO 19635-2016 精细陶瓷 (高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料抑藻活性的试验方法
- ISO 18560-1:2014 精细陶瓷（高级陶瓷 高级工艺陶瓷） - 室内照明环境下用试验箱法测定半导体光催化材料空气净化性能的试验方法 - 第1部分:甲醛去除率
- ISO 18061-2014 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料的抗病毒活性的测定. 采用噬菌体Q-β的试验方法
- ISO 18061:2014 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 半导体光催化材料的抗病毒活性测定 - 使用噬菌体Q-beta
- ISO 17094:2014 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）——室内照明环境下半导体光催化材料抗菌活性的试验方法
- ISO 17094-2014 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下半导体光催化材料的抗菌活性的试验方法
- ISO 14605:2013 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）——用于测试室内照明环境下使用的半导体光催化材料的光源
- ISO 22197-5:2013 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）——半导体光催化材料空气净化性能试验方法第5部分:甲硫醇的去除
- ISO 22197-4:2013 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）——半导体光催化材料空气净化性能试验方法第4部分:甲醛的去除
- ISO 22197-5-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.第5部分:甲硫醇的清除
- ISO 22197-4-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.第5部分:甲醛的清除
- ISO 13125-2013 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工艺陶瓷).半导体光催化材料抗真菌作用试验方法
- ISO 13125:2013 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）——半导体光催化材料抗真菌活性的试验方法
- ISO 10677:2011 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）——测试半导体光催化材料的紫外光源
- ISO 22197-2-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.第2部分:乙醛的清除
- ISO 22197-3-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.第3部分:甲苯的清除
- ISO 22197-3:2011 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）——半导体光催化材料空气净化性能试验方法第3部分:甲苯的去除
- ISO 22197-2:2011 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）——半导体光催化材料空气净化性能试验方法第2部分:乙醛的去除
- ISO 10676-2010 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工艺陶瓷).利用活性氧形成能力测定半导体光催化材料的水净化性能的测试方法
- ISO 10676:2010 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）——通过测定活性氧形成能力测定半导体光催化材料净水性能的试验方法
- ISO 27448:2009 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）——半导体光催化材料自清洁性能的试验方法——水接触角的测量
- ISO 27447-2009 精细陶瓷.(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的抗菌活性用测试方法
- ISO 27447:2009 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）——半导体光催化材料抗菌活性的试验方法
- ISO 22197-1-2007 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.第1部分:氧化一氮的移除
，关于半导体 光的标准
- GOST R IEC 61674-2006 医疗电气装置.用于X光诊断成像,配有电离室和/或半导体探测器的剂量计
- GOST 24458-1980 半导体光偶.基本参数
国际电工委员会，关于半导体 光的标准
- IEC TR 61292-9-2017 光放大器第9部分:半导体光放大器
- IEC TR 61292-9:2017 光放大器第9部分:半导体光放大器
- IEC 62149-8:2014 光纤有源元件和器件 - 性能标准 - 第8部分:种子反射半导体光放大器器件
- IEC 62149-9:2014 光纤有源元件和器件性能标准第9部分:种子反射半导体光放大器收发器
- IEC 62149-9-2014 纤维光学有源元件和器件. 性能标准. 第9部分: 晶种反射半导体光放大器收发器
- IEC 62149-8-2014 纤维光学有源元件和器件. 性能标准. 第8部分: 晶种反射半导体光放大器设备
- IEC TR 61292-9:2013 光放大器第9部分:半导体光放大器
- IEC TR 61292-9-2013 光放大器第9部分:半导体光放大器
- IEC 60747-12-1-1995 半导体器件 第12部分:光电子器件 第2节:纤维光学系统和子系统用带/不带尾纤的光发射或红外发射二极管空白详细规范
英国标准学会，关于半导体 光的标准
- BS ISO 19810-2017 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下半导体光催化材料自清洁性能的试验方法. 水接触角测量
- BS ISO 19722-2017 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 采用溶氧消耗法测定半导体光催化材料光催化活性的试验方法
- BS ISO 22197-1-2016 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.一氧化氮的移除
- BS ISO 22197-1-2016 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.一氧化氮的移除
- BS ISO 18071-2016 精细陶瓷 (高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下半导体光催化材料的抗病毒活性的测定. 采用噬菌体Q-β的试验方法
- BS ISO 18071-2016 精细陶瓷 (高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下半导体光催化材料的抗病毒活性的测定. 采用噬菌体Q-β的试验方法
- BS ISO 19635-2016 精细陶瓷 (高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料抑藻活性的试验方法
- BS ISO 18061-2014 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料的抗病毒活性的测定. 采用噬菌体Q-β的试验方法
- BS ISO 18061-2014 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料的抗病毒活性的测定. 采用噬菌体Q-β的试验方法
- BS ISO 17094-2014 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下半导体光催化材料的抗菌活性的试验方法
- BS ISO 17094-2014 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下半导体光催化材料的抗菌活性的试验方法
- BS PD CEN/TS 16599-2014 光催化. 半导体材料光催化性能试验的辐照条件以及此类条件的测量
- BS ISO 14605-2013 细陶瓷 (现代陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下使用的半导体光催化材料的测试光源
- BS ISO 13125-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料抗真菌作用试验方法
- BS ISO 22197-4-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.甲醛的清除
- BS ISO 22197-5-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.甲硫醇的清除
- BS ISO 13125-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料抗真菌作用试验方法
- BS ISO 22197-4-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.甲醛的清除
- BS ISO 22197-5-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.甲硫醇的清除
- BS ISO 10677-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级技术陶瓷).半导体光催化材料测试用紫外光源
- BS ISO 10677-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级技术陶瓷).半导体光催化材料测试用紫外光源
- BS ISO 22197-2-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法 乙醛的脱除
- BS ISO 22197-3-2011 精制陶瓷(优质陶器,先进工艺陶器).半导体光催化材料的空气净化性能试验方法.甲苯的移除
- BS ISO 22197-3-2011 精制陶瓷(优质陶器,先进工艺陶器).半导体光催化材料的空气净化性能试验方法.甲苯的移除
- BS ISO 22197-2-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法 乙醛的脱除
- BS ISO 10676-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).用形成活性氧的能力测量半导体光催化材料的水净化性能的试验方法
- BS ISO 10676-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).用形成活性氧的能力测量半导体光催化材料的水净化性能的试验方法
- BS ISO 27448-2009 细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的自洁性能用试验方法.水接触角度的测量
- BS ISO 27448-2009 细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的自洁性能用试验方法.水接触角度的测量
- BS ISO 22197-1-2008 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.一氧化氮的移除
- BS QC 720104-1997 电子元件的质量评定协调体系.半导体装置.光电子装置.光纤维系统或分系统用带/不带引线的场效应管管脚组件额空白详细规格
德国标准化学会，关于半导体 光的标准
- DIN ISO 22197-1-2016 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.第1部分:氧化一氮的移除(ISO 22197-1-2007)
- DIN EN 60747-5-5-2015 半导体设备.分离式元件.第5-5部分:光电元件.光融合元件(IEC 60747-5-5-2007+A1-2013);德文版本EN 60747-5-5-2011+A1-2015
- DIN 5032-9-2015 光度测定. 第9部分: 非相干发射的半导体光源的光度量的测量
- DIN EN 62149-9-2015 纤维光学有源元件和器件. 性能标准. 第9部分: 晶种反射半导体光放大器收发器 (IEC 62149-9-2014); 德文版本EN 62149-9-2014
- DIN EN 62149-8-2014 纤维光学有源元件和器件. 性能标准. 第8部分: 晶种反射半导体光放大器设备 (IEC 62149-8-2014); 德文版本EN 62149-8-2014
- DIN IEC/TR 61292-9-2013 光放大器.第9部分:半导体光放大器(SOAs)(IEC 86C/1109/CD-2013)
- DIN EN 60747-5-5-2011 半导体设备.分离式元件.第5-5部分:光电元件.光融合元件(IEC 60747-5-5-2007);德文版本EN 60747-5-5-2011
- DIN 50455-1-2009 半导体技术用材料的试验.表征光阻剂方法.第1部分:涂层厚度的光学法测定
- DIN 50453-2-1990 半导体工艺材料的检验.蚀刻混合剂浸蚀率的测定.第2部分:二氧化硅涂层.光学法
广东省质量技术监督局，关于半导体 光的标准
- DB44/T 1639.1-2015 半导体照明标准光组件总则 第1部分 层级划分
欧洲标准化委员会，关于半导体 光的标准
- CEN/TS 16599-2014 光催化.半导体材料光催化性能的辐照条件及这些条件的测定
韩国标准，关于半导体 光的标准
- KS L ISO 10676-2012 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).利用活性氧形成能力测定半导体光催化材料的水净化性能的测试方法
- KS L ISO 27447-2011 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷).半导体光催化材料的抗菌活性用测试方法
- KS L ISO 27447-2011 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷).半导体光催化材料的抗菌活性用测试方法
- KS L ISO 22197-1-2008 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.第1部分:氧化一氮的移除
- KS L ISO 22197-1-2008 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.第1部分:氧化一氮的移除
日本工业标准调查会，关于半导体 光的标准
- JIS R1750-2012 精细陶瓷.室内光环境下测试半导体光催化材料用光源
- JIS R1750-2012 精细陶瓷.室内光环境下测试半导体光催化材料用光源
行业标准-医药，关于半导体 光的标准
- YY 0845-2011 激光治疗设备.半导体激光光动力治疗机
- YY 1289-2016 激光治疗设备眼科半导体激光光凝仪
美国国防后勤局，关于半导体 光的标准
- DLA DSCC-DWG-85006 REV E-2008 1.0安,60伏的直流光隔密封固态继电器,采用互补金属氧化物半导体输入
- DLA MIL-PRF-19500/210 B NOTICE 1-1999 半导体装置,NPN硅光晶体管,类型2N986
(美国)固态技术协会,隶属EIA，关于半导体 光的标准
- JEDEC JESD89A-2006 阿尔法粒子和陆地宇宙光的测量和传送 导致在半导体设备中的轻微错误
行业标准-电子，关于半导体 光的标准
- SJ 20642.2-1998 半导体光电模块GD82型PIN-FET光接收模块详细规范
- SJ 20642.3-1998 半导体光电模块GD83型PIN-FET光接收模块详细规范
- SJ 20642.6-1998 半导体光电模块GH83型光耦合器详细规范
- SJ 50923/1-1995 A6-02A-M2(Z2)和A6-01B-M1(Z1) 型半导体光耦合器金属外壳详细规范
- SJ 50033/35-1994 GH30型半导体高速光耦合器详细规范
- SJ 50033/3-1994 半导体分立器件.GP、GT和GCT级GH21、GH22和GH23型半导体光耦合器详细规范
- SJ 20072-1992 半导体分立器件.GH24、GH25和GH26型半导体光耦合器.详细规范
- SJ 2215.13-1982 半导体光耦合器入出间绝缘电阻的测试方法
- SJ 2215.14-1982 半导体光耦合器入出间绝缘耐压的测试方法
- SJ 2215.11-1982 半导体光耦合器脉冲、上升、下降、延迟、贮存时间的测试方法
- SJ 2215.8-1982 半导体光耦合器输出饱和压降的测试方法
- SJ 2215.9-1982 半导体光耦合器（三极管）反向截止电流的测试方法
- SJ 2215.7-1982 半导体光耦合器集电极-发射极反向击穿电压的测试方法
- SJ 2215.1-1982 半导体光耦合器测试方法总则
- SJ 2215.2-1982 半导体光耦合器（二极管）正向压降的测试方法
- SJ 2219-1982 半导体光敏三极管型光耦合器
- SJ 2218-1982 半导体光敏二极管型光耦合器
- SJ 2220-1982 半导体达林顿型光耦合器
- SJ 2215.6-1982 半导体光耦合器（二极管）结电容的测试方法
- SJ 2215.12-1982 半导体光耦合器入出间隔离电容的测试方法
- SJ 2215.4-1982 半导体光耦合器（二极管）反向电流的测试方法
- SJ 2215.5-1982 半导体光耦合器（二极管）反向击穿电压的测试方法
- SJ 2215.10-1982 半导体光耦合器直流电流传输比的测试方法
- SJ 2215.3-1982 半导体光耦合器（二极管）正向电流的测试方法
- SJ 20642.4-1998 半导体光电模块GH81型光耦合器详细规范
- SJ 2658.6-1986 半导体红外发光二极管测试方法.输出光功率的测试方法
- SJ 20642.1-1998 半导体光电模块GD81型DIN-FET光接收模块详细总规范
- SJ 2658.13-1986 半导体红外发光二极管测试方法.输出光功率温度系数的测试方法
- SJ 20642.5-1998 半导体光电模块GH82型光耦合器详细规范
