+++++半导体光催化

本专题涉及+++++半导体光催化的标准有64条。

国际标准分类中,+++++半导体光催化涉及到陶瓷、表面处理和镀涂。

在中国标准分类中,+++++半导体光催化涉及到特种陶瓷、半导体分立器件综合、催化剂、日用玻璃、陶瓷、搪瓷、塑料制品综合。


法国标准化协会,关于+++++半导体光催化的标准

  • NF B44-101-5-2021 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能的试验方法. 第5部分: 甲硫醇的清除
  • NF B44-101-4-2021 精细陶瓷 (现代陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能的试验方法. 第4部分: 甲醛的清除
  • NF B44-105-2013 细陶瓷 (现代陶瓷, 高级工业陶瓷) - 室内照明环境下使用的半导体光催化材料的测试光源
  • NF B44-101-4-2013 细陶瓷 (现代陶瓷, 高级工业陶瓷) - 半导体光催化材料空气净化性能的试验方法 - 第4部分: 甲醛的清除
  • NF B44-101-5-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.第5部分:甲硫醇的清除
  • NF B44-103-2011 细瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).测试半导体光催化材料所用的紫外光源.

国际标准化组织,关于+++++半导体光催化的标准

  • ISO 22197-4-2021 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能的试验方法. 第5部分: 甲醛的清除
  • ISO 22197-5-2021 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能的试验方法. 第5部分: 甲硫醇的清除
  • ISO 19810-2017 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下半导体光催化材料自清洁性能的试验方法. 水接触角测量
  • ISO 19722-2017 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 采用溶氧消耗法测定半导体光催化材料光催化活性的试验方法
  • ISO 19722-2017 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 采用溶氧消耗法测定半导体光催化材料光催化活性的试验方法
  • ISO 22197-1-2016 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能试验方法. 第1部分: 一氧化氮净化
  • ISO 22197-1-2016 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能试验方法. 第1部分: 一氧化氮净化
  • ISO 18071-2016 精细陶瓷 (高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下半导体光催化材料的抗病毒活性的测定. 采用噬菌体Q-β的试验方法
  • ISO 19635-2016 精细陶瓷 (高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料抑藻活性的试验方法
  • ISO 18061-2014 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料的抗病毒活性的测定. 采用噬菌体Q-β的试验方法
  • ISO 17094-2014 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下半导体光催化材料的抗菌活性的试验方法
  • ISO 22197-4-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.第5部分:甲醛的清除
  • ISO 22197-5-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.第5部分:甲硫醇的清除
  • ISO 13125-2013 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工艺陶瓷).半导体光催化材料抗真菌作用试验方法
  • ISO 22197-3-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.第3部分:甲苯的清除
  • ISO 22197-2-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.第2部分:乙醛的清除
  • ISO 10676-2010 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工艺陶瓷).利用活性氧形成能力测定半导体光催化材料的水净化性能的测试方法
  • ISO 27447-2009 精细陶瓷.(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的抗菌活性用测试方法
  • ISO 22197-1-2007 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.第1部分:氧化一氮的移除

英国标准学会,关于+++++半导体光催化的标准

  • BS ISO 19810-2017 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下半导体光催化材料自清洁性能的试验方法. 水接触角测量
  • BS ISO 19722-2017 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 采用溶氧消耗法测定半导体光催化材料光催化活性的试验方法
  • BS ISO 22197-1-2016 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.一氧化氮的移除
  • BS ISO 22197-1-2016 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.一氧化氮的移除
  • BS ISO 18071-2016 精细陶瓷 (高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下半导体光催化材料的抗病毒活性的测定. 采用噬菌体Q-β的试验方法
  • BS ISO 18071-2016 精细陶瓷 (高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下半导体光催化材料的抗病毒活性的测定. 采用噬菌体Q-β的试验方法
  • BS ISO 19635-2016 精细陶瓷 (高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料抑藻活性的试验方法
  • BS ISO 18061-2014 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料的抗病毒活性的测定. 采用噬菌体Q-β的试验方法
  • BS ISO 18061-2014 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料的抗病毒活性的测定. 采用噬菌体Q-β的试验方法
  • BS ISO 17094-2014 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下半导体光催化材料的抗菌活性的试验方法
  • BS ISO 17094-2014 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下半导体光催化材料的抗菌活性的试验方法
  • BS PD CEN/TS 16599-2014 光催化. 半导体材料光催化性能试验的辐照条件以及此类条件的测量
  • BS ISO 14605-2013 细陶瓷 (现代陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下使用的半导体光催化材料的测试光源
  • BS ISO 13125-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料抗真菌作用试验方法
  • BS ISO 22197-5-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.甲硫醇的清除
  • BS ISO 22197-5-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.甲硫醇的清除
  • BS ISO 22197-4-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.甲醛的清除
  • BS ISO 13125-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料抗真菌作用试验方法
  • BS ISO 22197-4-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.甲醛的清除
  • BS ISO 10677-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级技术陶瓷).半导体光催化材料测试用紫外光源
  • BS ISO 10677-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级技术陶瓷).半导体光催化材料测试用紫外光源
  • BS ISO 22197-3-2011 精制陶瓷(优质陶器,先进工艺陶器).半导体光催化材料的空气净化性能试验方法.甲苯的移除
  • BS ISO 22197-2-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法 乙醛的脱除
  • BS ISO 22197-2-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法 乙醛的脱除
  • BS ISO 22197-3-2011 精制陶瓷(优质陶器,先进工艺陶器).半导体光催化材料的空气净化性能试验方法.甲苯的移除
  • BS ISO 10676-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).用形成活性氧的能力测量半导体光催化材料的水净化性能的试验方法
  • BS ISO 10676-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).用形成活性氧的能力测量半导体光催化材料的水净化性能的试验方法
  • BS ISO 27448-2009 细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的自洁性能用试验方法.水接触角度的测量
  • BS ISO 27448-2009 细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的自洁性能用试验方法.水接触角度的测量
  • BS ISO 22197-1-2008 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.一氧化氮的移除

德国标准化学会,关于+++++半导体光催化的标准

  • DIN ISO 22197-1-2016 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.第1部分:氧化一氮的移除(ISO 22197-1-2007)

欧洲标准化委员会,关于+++++半导体光催化的标准

  • CEN/TS 16599-2014 光催化.半导体材料光催化性能的辐照条件及这些条件的测定

韩国标准,关于+++++半导体光催化的标准

  • KS L ISO 10676-2012 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).利用活性氧形成能力测定半导体光催化材料的水净化性能的测试方法
  • KS L ISO 27447-2011 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷).半导体光催化材料的抗菌活性用测试方法
  • KS L ISO 27447-2011 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷).半导体光催化材料的抗菌活性用测试方法
  • KS L ISO 22197-1-2008 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.第1部分:氧化一氮的移除
  • KS L ISO 22197-1-2008 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.第1部分:氧化一氮的移除

日本工业标准调查会,关于+++++半导体光催化的标准

  • JIS R1750-2012 精细陶瓷.室内光环境下测试半导体光催化材料用光源
  • JIS R1750-2012 精细陶瓷.室内光环境下测试半导体光催化材料用光源




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