71.100.20 工业气体 标准查询与下载
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本标准规定了电子工业用氩的技术要求、试验方法和包装、标志。 本标准适用于以深冷法从空气、合成氨尾气中提取的液态氩和气态氩。电子工业用氩气用于系统的吹扫、保护和增压，它还可用于化学气相淀积、溅射，等离子及活性离子 刻蚀剂和退火等不同工艺中。 分子式：Ar 相对分子质量：39.948（按1991年国际相对原子质量）
Gases for electronic industry--Argon
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1997-08-13
- 实施
- 1998-05-01
本标准规定了电子工业用液态和气态氮的技术要求、检验方法以及包装、标志等，适用于从分离空气或氨还原法制得的氮，在超大规模集成电路制造中用作净化、覆盖、保护、加压，也用于化学气相淀积时的载气等。 氮气化学性质不活泼，不可燃，是一种窒息性气体。 分子式：N。 相对分子质量：28.0134（按1991年国际相对原子质量）。
Gases for electronic industry--Nitrogen
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1997-08-13
- 实施
- 1998-05-01
本标准规定了电子工业用氦气的技术要求、检验方法以及包装、标志等，适用于以深冷法从天然气、空气或工厂弛放气提取的高纯度氦，在半导体及其器件生产中用作清洗气、加压气，也用作载气和保护气等。 分子式：He 相对分子质量：4.003（按1991年国际相对原子质量）
Gases for electronic industry--Helium
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1997-08-13
- 实施
- 1998-05-01
本标准规定了溶解乙炔的技术要求、试验方法、检验规则、标志、标签、包装、运输、贮存、安全等。 本标准适用于碳化钙与水作用或天然气裂解制得的粗乙炔气，经净化、压缩、干燥、溶解于丙酮中，贮存在充满多孔填料气瓶内的乙炔气。本产品主要作为金属焊接、切割加热的燃料气。 分子式：C2H2 相对分子质量：26.04（按1993年国际相对原子质量）
Dissolved acetylene
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G16
- 发布
- 1996-10-28
- 实施
- 1997-06-01
本标准规定了纯氩产品的技术要求、检验方法、验收规则以及包装、标志、贮存与运输。 本标准适用于深冷法从空气、合成氨尾气中提取的气态和液态纯氩，主要用于金属焊接、冶炼等。 分子式：Ar 相对分子质量：39.948（按1991年国际相对原子质量）
Pure argon
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了纯氢、高纯氢、超纯氢的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、贮存及运输和安全要求。 本标准适用于以工业氢为原料经吸附法、扩散法以及其他方法净化制取的瓶装或管道输送的氢气， 主要用于电子工业、石油化工、金属冶炼、国防尖端技术和科学研究等部门。
Pure hydrogen, high pruity hydrogen and ultra pure hydrogen
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了工业氢的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、贮存和运输及安全要求。 本标准适用于水电解法、食盐电解法制取之压缩与未压缩工业氢，主要用于石油和油脂加氢、人造宝石和石英玻璃制造、金属切割与冶炼。
Hydrogen
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了氙气的技术要求，检验方法，检验规则，包装、标志、运输及贮存。本标准适用于深冷法从空气中提取的气态氙。主要用于电光源工业，也用于医疗、电真空、激光等领域。 氙是一种无臭、无味的不活泼气体。 分子式：Xe 相对分子质量：131.29（按1991年国际相对原子质量）
Xenon
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了氪气的技术要求、检验方法、检验规则，包装、标志、运输及贮存。 本标准适用于深冷法从空气中提取的气态氪。主要用于电真空及电光源等工业。 氪是一种无臭、无味的不活泼气体。 分子式：Kr 相对分子质量：83.80（按1991年国际相对原子质量）
Krypton
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了高纯氩的技术要求、检验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存。 本标准适用于以深冷法从空气、合成氨尾气中提取的气瓶包装的高纯气态氩。 高纯氩主要用作半导体工业，稀有金属、有色金属的冶炼，焊接中的保护气，特种灯泡的充填气，气相色谱分析用载气及配制标准气的底气等。 分子式：Ar 相对分子质量：39.948（按1991年国际相对原子质量）
High purity argon
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了纯氦产品的技术要求、检验方法、检验规则以及产品的包装、标志、贮存、运输等。 本标准适用于深冷法自空气、天然气或工厂弛放气中提取的瓶装气态氦，主要用于焊接、潜水呼吸、特种金属冶炼、色谱分析载气、以及增压、清洗用气等。
Pure helium
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了工业氦气的技术要求、检验方法、检验规则以及产品的包装、标志、贮存、运输等。 本标准适用于深冷法、膜渗透法自天然气、空气或工厂弛放气中提取的瓶装气态氦。主要用于检漏、填充气球、氦飞艇、飞行船等。 分子式：He。 相对分子质量：4.00260（按1991年国际相对原子质量）。
Industrial helium
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了工业用氧的技术要求、检验方法、检验规则、包装、标志、贮存、运输及安全要求。 本标准适用于深冷法空气分离制取的气态和液态氧，主要用于气体火焰加工和其他工业目的。 分子式：O2 相对分子质量：31.999（按1991年国际相对原子质量）
Industrial oxygen
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了电子工业用硅烷气体的技术要求、检验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求等。 本标准主要用于电子工业中多晶硅和单晶硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非晶硅薄膜淀积等。 分子式：SiH4 相对分子质量：32.117（按1991年国际相对原子质量）。 101.3kPa下的沸点：-112℃ 20℃和101.3kPa下气体密度：1.342kg/m。 -185℃下液体密度：711kg/m。
Gas for electronic industry--Silane
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了高纯氦气产品的技术要求、检验方法、检验规则以及产品的包装、标志、贮存与运输等。 本标准适用于以深冷法自天然气、空气或工厂弛放气中提取的瓶装高纯度气态氦。主要用于标准混合气的制备、低温超导、科学研究、色谱分析载气等。
High pruity helum
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1995-12-20
- 实施
- 1996-08-01
本标准规定了气体中微量氧的测定方法、对仪器的要求、测定条件、步骤及结果处理。 本标准适用于氮、氩等气体中微量氧的测定。测定范围为（0.3～10）×10-6（V/V）。加上安全措施后，本标准也适用于氢气中微量氧的测定。
Determination of Trace Oxygen in Gas Yellow Phosphorus Luminescent Method
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1993-12-30
- 实施
- 1994-10-01
本标准规定了磷化氢产品的技术要求、试验方法、检验规则、安全要求以及包装、标志、运输与贮存。 本标准适用于亚磷酸热分解、磷化物水解、单质磷与水或碱反应等方法获得并经精制得到的磷化氢产品。它主要用于半导体器件和集成电路生产的外延、离子注入和掺杂。磷化氢是一种剧毒、可燃、具有腐鱼味的无色气体，在空气中高浓度时能自燃。 分子式：PH3 相对分子质量：33.9975（按1989年国际原子量）
Gas for electronic industry.Phosphine
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1993-12-30
- 实施
- 1994-10-01
本标准规定了高纯氧的技术要求、检验方法、检验规则及包装、标志、运输、贮存、安全要求。 本标准适用于深冷法分离空气而制取的以及用纯化法制取的高纯度气态和液态氧。该产品主要用 于标准混合气的制备、科学研究、集成电路和半导体器件的生产，也适用于对氧气纯度要求较高的其他领域。 分子式：O2 相对分子质量：31.9988（按1989年国际相对原子质量）
High purity oxygen
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1993-08-26
- 实施
- 1994-07-01
本标准规定了氧气中微量氩、氮和氪含量的测定方法。 本标准适用于纯氧、高纯氧以及电子工业用气体氧等气态和液态氧中微量氩、氮和氪含量的测定。
Determination of trace argon, nitrogen and krypton inoxygen. Gas chromatographic method
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1993-08-26
- 实施
- 1994-07-01
本标准规定了电子工业用气体氧和散装液态氧的技术要求，检验方法，检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 电子工业用氧主要用于二氧化硅化学气相淀积，用作氧化源和生产高纯水的反应剂，用于等离子体蚀刻和剥离。也可用于光导纤维。 分子式：O2 相对分子质量：31.999（1989年国际相对原子质量表）
Gases for electronic industry. Oxygen
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 1993-08-26
- 实施
- 1994-07-01
