71.100.20 工业气体 标准查询与下载



共找到 502 条与 工业气体 相关的标准,共 34

本标准规定了三氟化硼产品的技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以氟硼酸钠为原料,采用热分解法制得的三氟化硼。主要用于半导体器件和集成电路生产的离子注入和掺杂。 分子式:BF3 相对分子质量:67.805(按1989年国际相对原子质量)

Gases for electronic industry. Boron trifluoride

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
1993-08-26
实施
1994-07-01

本标准规定了氯化氢的技术要求、检验方法、检验规则以及包装、标志、运输、贮存和安全要求。 本标准适用于以氢、氯为原料合成的氯化氢和以工业氯化氢为原料经净化制得的瓶装液态氯化氢。 氯化氢主要用于电子工业,在集成电路生产中用于蚀刻、钝化、外延等工艺。也可用于金属冶炼、光导通讯和科学研究等领域。 分子式:HC1 相对分子质量:36.461(按1989年国际相对原子质量)

Gases for electronic industry. Hydrogen chloride

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
1993-08-26
实施
1994-07-01

本标准规定了电子工业用气体高纯氨的技术要求,试验方法,检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 本标准适用于瓶装高纯氨。该产品主要用于半导体工业,氮化硅的化学气相淀积,也可用于硅或氧化硅的氮化。 分子式:NH3 相对分子质量:17.031(按1989年国际相对原子质量)

Gases for electronic industry. High purity ammonia

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
1993-08-26
实施
1994-07-01

本标准规定了电子工业用气体--瓶装氧化亚氮的技术要求、试验方法、验收规则及包装、标志、贮存与运输要求。 本标准适用于硝酸铵热分解工艺制取的氧化亚氮。该产品主要用于电子工业中二氧化硅的化学气相淀积、等离子工艺。 分子式:N2O 相对分子质量:44.01(按1989年国际相对原子质量)

Gases for electronic industry. Nitrous oxide

ICS
71.100.20
CCS
G86
发布
1993-08-26
实施
1994-07-01

本标准规定了溶解乙炔气瓶(以下简称乙炔瓶)充装的基本原则和安全技术要求。 本标准适用于按GB11638制造的溶解乙炔气瓶的充装。 本标准不适用于化工生产过程中盛装溶解乙炔的固定式容器的充装。

Rules for the filling of dessolved acetylene

ICS
71.100.20
CCS
C78
发布
1992-08-05
实施
1993-03-01

本标准规定了光气及光气化产品生产装置安全评价的基本原则、要求和方法。 本标准适用于光气及光气化产品生产装置设计、生产阶段的安全评价。

General principle of safety assessment for phosgene and its products plant

ICS
71.100.20
CCS
G09
发布
1992-06-29
实施
1993-05-01

本标准规定了用静态容积法制备标准混合气的方法。该法制备的标准混合气的压力接近于大气压。 本标准适用于制备10-6~10-1(V/V)浓度的标准混合气,其相对误差为10-3~10-2。

Gas analysis--Preparation of calibration gas mixtures--Static volumetric methods

ICS
71.100.20
CCS
C87
发布
1989-03-22
实施
1990-05-01

本标准规定了用比较法测定标准混合气的组成。 本标准适用于测定混合气中每一组分的浓度。但是,由于所使用的仪器的类型不同,每一浓度值的准确度可以在相当大的范围内变化。

Gas analysis--Determination of composition of calibration gas mixtures—Comparison methods

ICS
71.100.20
CCS
G87
发布
1989-03-22
实施
1990-05-01

本标准规定了以气相色谱法测定气体中的微量氢。 本标准适用于氮、氩、氧、空气、氪、氙及灯泡用氩等气体中微量氢的测定。测定范围为0.1~10ppm(V/V)。当待测样品中含有200ppm(V/V)以上的氖或1000ppm(V/V)以上的氦时,将对氢的测定产生干扰。此时需将氢与氦、氖分离之后本标准方能适用。 本标准不适用于氦、氖等气体中微量氢的测定。

Determination of trace hydrogen in gases--Gas chromatographic method

ICS
71.100.20
CCS
G87
发布
1988-04-12
实施
1988-12-01

本标准适用于瓶装氢气为气源的供氢站、供氢装置和供氢作业。

Technical safety regulation for gaseous hydrogen use

ICS
71.100.20
CCS
G09
发布
1985-03-01
实施
1985-11-01

Asset Administration Shell for industrial applications - Asset Administration Shell structure

ICS
71.100.20
CCS
发布
2024-02-29
实施
2024-02-29

本文件规定了高纯度变压吸附制氮系统(以下简称“制氮系统”)的术语和定义、零部件、基本参数、设计条件、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。 本文件适用于高纯度变压吸附制氮系统的生产、检验。

High purity pressure swing adsorption nitrogen production system

ICS
71.100.20
CCS
C352
发布
2024-01-19
实施
2024-02-03

本文件规定了电子工业用乙硼烷混合气(以下简称乙硼烷混合气)的技术要求、试验方法、检 验规则、标志、包装、运输和储存及安全等。 本文件适用于电子工业用乙硼烷混合气,主要用作外延工艺的掺杂源、扩散工艺的扩散源和离 子注入源。乙硼烷混合气中平衡气多为氦气、氩气、氮气、氢气,也可以是其他不与乙硼烷发生化 学反应,且不影响反应工艺的气体。

Gas diborane mixture for electronic industry

ICS
71.100.20
CCS
C419
发布
2023-12-22
实施
2023-12-30

本文件规定了电子工业用气体氧/氮混合气(以下简称氧/氮混合气)的技术要求、试验方法、检验 规则、标志、包装、运输和储存等。 本文件适用于电子工业用氧/氮混合气,其测定范围(体积分数):氧气为0.1%~50%,其它组分比 例的氧/氮混合气可参考执行。

Gas oxygen/nitrogen mixture for electronic industry

ICS
71.100.20
CCS
C419
发布
2023-12-22
实施
2023-12-30

本文件规定了电子工业用气体氟气混合气(以下简称氟气混合气)的技术要求、试验方法、检 验规则、标志、包装、运输和储存及安全等。 本文件适用于电子工业用氟气混合气,主要用于激光气、汽车、制药工业中材料氟化处理等领 域。氟气混合气中平衡气多采用氮气、氖气或氦气,也可以是其他不与氟气发生化学反应,且不影 响反应工艺的气体。

Gas fluorine gas mixture for electronic industry

ICS
71.100.20
CCS
C419
发布
2023-12-22
实施
2023-12-30

本文件规定了电子工业用气体六氟乙烷混合气(以下简称六氟乙烷混合气)的技术要求、试验 方法、检验规则、标志、包装、运输和储存及安全等。 本文件适用于电子工业用六氟乙烷混合气,主要在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体。 六氟乙烷混合气中平衡气多为氧气,也可以是其他不与六氟乙烷发生化学反应,且不影响反应工艺 的气体。

Gas hexafluoroethane mixture for electronic industry

ICS
71.100.20
CCS
C419
发布
2023-12-22
实施
2023-12-30

本文件规定了电子工业用气体磷烷混合气(以下简称磷烷混合气)的技术要求、试验方法、检 验规则、标志、包装、运输和储存及安全等。 本文件适用于电子工业用磷烷混合气,主要用作外延工艺的掺杂源、扩散工艺的扩散源和离子 注入源。磷烷混合气中平衡气多为氦气、氩气、氮气、氢气,也可以是其他不与磷烷发生化学反应, 且不影响反应工艺的气体。

Gas phospane mixture for electronic industry

ICS
71.100.20
CCS
C419
发布
2023-12-22
实施
2023-12-30

本文件规定了电子工业用气体氙/氖混合气(以下简称氙/氖混合气)的技术要求、试验方法、检验 规则、标志、包装、运输和储存等。 本文件适用于电子工业用氙/氖混合气,其测定范围(体积分数):氙气为0.1%~10%,其它组分比 例的氙/氖混合气可参考执行。

Gas xenon/neon mixture for electronic industry

ICS
71.100.20
CCS
C419
发布
2023-12-22
实施
2023-12-30

本文件规定了电子工业用气体五氟乙烷(以下简称五氟乙烷)的技术要求、试验方法、检验规则、 标志、包装、运输和储存及安全等。 本文件适用于以工业五氟乙烷为原料经纯化制备的电子工业用五氟乙烷,它在电子工业等离子蚀 刻工艺中作为蚀刻气体。

Gas pentafluoroethane for electronic industry

ICS
71.100.20
CCS
C419
发布
2023-12-22
实施
2023-12-30

本文件规定了电子工业用气体六氟丙烷(以下简称六氟丙烷)的技术要求、试验方法、检验规则、 标志、包装、运输和储存及安全等。 本文件适用于以工业六氟丙烷为原料经纯化制备的电子工业用六氟丙烷,它在电子工业等离子蚀 刻工艺中作为蚀刻气体。

Hexafluoropropane gas for electronic industry

ICS
71.100.20
CCS
C419
发布
2023-12-22
实施
2023-12-30



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