G04 基础标准与通用方法 标准查询与下载

GB/T 29732-2021 表面化学分析 中等分辨俄歇电子能谱仪 元素分析用能量标校准

本文件规定了俄歇电子能谱仪动能能量标不确定度为3eV时的校准方法,用于识别表面常规元素。另外,本文件还规定了一种用于确定校准周期的方法。 本文件适用于直接模式或微分模式的仪器分辨率小于或等于0.5%,微分模式调制幅度的峰值为2eV,配有惰性气体离子枪或其他样品清洁方法,具有4keV或更高束能电子枪的谱仪。

Surface chemical analysis—Medium resolution auger electron spectrometers—Calibration of energy scales for elemental analysis

GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法

本文件规定了一种通过测定溅射速率校准材料溅射深度的方法,即在一定溅射条件下测定一种具有单层或多层膜参考物质的溅射速率,用作相同材料膜层的深度校准。当使用俄歇电子能谱(AES)、X射线光电子能谱(XPS)和二次离子质谱(SIMS)进行深度分析时,这种方法对于厚度在20nm~200nm 之间的膜层具有5%~10%的准确度。溅射速率是由参考物质相关界面间的膜层厚度和溅射时间决定。使用已知的溅射速率并结合溅射时间,可以得到被测样品的膜层厚度。测得的离子溅射速率可用于预测各种其他材料的离子溅射速率,从而可以通过溅射产额和原子密度的表值估算出这些材料的深度尺度和溅射时间。

Surface chemical analysis—Depth profiling—Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films

GB/T 40300-2021 微束分析 分析电子显微学 术语

本文件界定了在AEM实践中所用的术语。 包含一般概念和特定概念的术语,按照系统顺序中各自的层次分类。 本文件适用于所有和AEM实践相关的标准化文件。 此外,本文件的某些部分适用于相关领域(如TEM,STEM,SEM,EPMA,EDX)通用术语的定义。 注:见ISO在线浏览平台(OBP):https://www.iso.org/obp/ui/。

Microbeam analysis—Analytical electron microscopy—Vocabulary

GB/T 40244-2021 化学品 固液鉴别 流动性测定法

本文件规定了化学品固液鉴别流动性测定法的试验概述、试验设备、样品处理、试验步骤和结果判定。 本文件适用于不能确定熔点的黏性或糊状化学品的固体与液体形态鉴别。

Chemicals—Liquid or solid identification—Fluidity test method

GB/T 4930-2021 微束分析 电子探针显微分析 标准样品技术条件导则

本文件适用于电子探针显微分析(EPMA)中使用的单相标准样品(有证参考物质,CRMs),并给出了标准样品应用于平整抛光表面显微分析的使用指南。 本文件不适用于有机和生物标准样品。

Microbeam analysis—Electron probe microanalysis—Guidelines for the specification of certified reference materials (CRMs)

GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法

本文件描述了用扇形磁场或四极杆式二次离子质谱仪对硅中硼进行深度剖析的方法,以及用触针式表面轮廓仪或光学干涉仪深度定标的方法。/cm3 ~1×1020 a /cm3 的单晶硅、多晶硅或非晶本文件适用于硼原子浓度范围1×1016 a t oms t oms 硅样品,溅射弧坑深度在50nm 及以上。

Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of boron in silicon

GB/T 40129-2021 表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪质量标校准

本文件描述了一种用于优化一般分析目的的飞行时间二次离子质谱(SIMS)仪器的质量校准准确度的方法。 本文件仅适用于飞行时间仪器,但并不限于任何特定的仪器设计。 本文件提供了对一些仪器参数优化的指导,这些参数能使用此程序进行优化,还提供了适用于校准质量标以获得最佳质量准确度的一般峰的类型。

Surface chemical analysis—Secondary ion mass spectrometry—Calibration of the mass scale for a time-of-flight secondary ion mass spectrometer

GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染

本文件描述了测量经化学机械抛光或外延生长的硅片上表面元素污染的原子表面密度的TXRF方法。 本文件适用于以下情形: ———原子序数从16(S)到92(U)的元素; ———原子表面密度介于1×1010a/cm2~1×1014a/cm2之间的污染元素;tomstoms ———采用VPD(气相分解)样品制备方法得到的原子表面密度介于5×108a/cm2~5×1012atomst/cm2之间的污染元素(见3.oms4)。

Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

GB/T 40128-2021 表面化学分析 原子力显微术 二硫化钼片层材料厚度测量方法

本文件规定了利用原子力显微术测量层状二硫化钼纳米片厚度的测量方法。 本文件适用于转移或生长在固体衬底表面的层状二硫化钼纳米片厚度的测量,测量范围从单层二硫化钼纳米片至厚度不大于100nm,其他类似的纳米片层材料厚度测量也可参照此方法进行。

Surface chemical analysis—Atomic force microscopy—Test method for thickness of the two-dimensional layered molybdenum disulfide nanosheets

GB/T 38531-2020 微束分析 致密岩石微纳米级孔隙结构计算机层析成像（CT）分析方法

本标准规定了计算机层析成像(CT)技术用于致密岩石微纳米级孔隙结构成像的术语和定义、分析方法、技术要求、数据处理、分析报告内容与不确定度分析。本标准适用于泥页岩、致密碳酸盐岩、致密砂岩、煤岩等岩石的微纳米级CT分析,其他地质样品也可参照执行。

Microbeam analysis—Computed tomography (CT) method for micro- and nano-pore structure analysis in tight rock samples

GB/T 38532-2020 微束分析 电子背散射衍射 平均晶粒尺寸的测定

本标准规定了用电子背散射衍射法(EBSD)对抛光截面进行平均晶粒尺寸的测定方法,包含与晶体试样中的位置相关的取向、取向差和花样质量因子的测量要求[1]。 注1:使用光学显微镜测定晶粒尺寸已为大家普遍接受,与其相比,EBSD具有很多技术优势,如高的空间分辨率和晶粒取向的定量描述等。 注2:该方法还可用于一些复杂材料(如双相材料)的晶粒尺寸测量。 注3:对变形程度较大的试样进行分析时,需谨慎处理结果。

Microbeam analysis—Electron backscatter diffraction—Measurement of average grain size

GB/T 37664.1-2019 纳米制造 关键控制特性 发光纳米材料 第1部分：量子效率

Nanomanufacturing—Key control characteristics—Luminescent nanomaterials—Part 1:Quantum efficiency

GB/T 36504-2018 印刷线路板表面污染物分析 俄歇电子能谱

Guide for the analysis of the printed circuit board surface contamination—Auger electron spectroscopy

GB/T 36533-2018 硅酸盐中微颗粒铁的化学态测定 俄歇电子能谱法

Determination of the chemical state of micro-iron in silicate—Auger electron spectroscopy

GB/T 36401-2018 表面化学分析 X射线光电子能谱 薄膜分析结果的报告

本标准给出了采用XPS对基材上薄膜的分析报告所需的最少信息量要求的说明。这些分析涉及化学组成和均匀薄膜厚度的测量，以及采用变角XPS、XPS溅射深度剖析、峰形分析和可变光子能量XPS的方式对非均匀薄膜作为深度函数的化学组成的测量。

Surface chemical analysis—X-ray photoelectron spectroscopy—Reporting of results of thin-film analysis

GB/T 35097-2018 微束分析 扫描电镜-能谱法 环境空气中石棉等无机纤维状颗粒计数浓度的测定

本标准规定了利用扫描电镜测量环境空气中石棉等无机纤维状颗粒计数浓度的方法。此方法同时利用X射线能谱分析技术(EDX)分析纤维状颗粒的元素组成，并根据此数据区分石棉纤维、硫酸钙纤维和其他无机纤维。 本标准适用于环境空气中石棉等无机纤维状颗粒计数浓度的测定，也适用于建筑物内空气中石棉等无机纤维状颗粒计数浓度的检测。例如含石棉建筑材料拆除更换后，空气中残留石棉纤维状颗粒浓度的测定。 如果检测时未发现纤维(纤维根数为0)，此时其95%置信区间上限为2.99根。如果每平方厘米样品膜上通过1.0 m空气，用扫描电镜分析这张膜上1.0 mm面积，即通过被分析面积膜的空气体积为0.010 m时，检出限大约是300根/m纤维。 滤膜试样上的纤维状颗粒浓度检测范围大约在3根/cm~200根/cm。空气中的浓度值(纤维根数/m)取决于采样体积，可计算得出。

Microbeam analysis—Scanning electron microscopy with energy dispersive X-ray spectrosmetry—Determination of numberical concentration of inorganic fibrous particles in ambient air

GB/T 35098-2018 微束分析 透射电子显微术 植物病毒形态学的透射电子显微镜鉴定方法

本标准规定了使用透射电子显微镜对植物病毒进行形态学观察和鉴定的步骤、质量要求及鉴定报告的发布。 本标准适用于各种类型透射电镜对植物病毒形态的观察和鉴定。

Microbeam analysis—Transmission electron microscopy—Morphological identification method of plant viruses by transmission electron microscopy

GB/T 35099-2018 微束分析 扫描电镜-能谱法 大气细粒子单颗粒形貌与元素分析

本标准规定了利用扫描电子显微镜(SEM)及能谱仪(EDS)观测环境空气中细粒子单颗粒形貌、定性分析元素，对环境空气颗粒物进行分类的方法。扫描电镜用于颗粒物的形貌观察和粒径测量，X射线能谱仪用于颗粒物主要元素定性分析。 本标准适用于在电子束轰击下稳定的颗粒物分析，不适用于硝酸盐、铵盐等热不稳定的颗粒物分析。

Microbeam analysis—Scanning electron microscopy with energy dispersive X-ray spectrometry—Morphology and element analysis of single fine particles in ambient air

GB/T 36052-2018 表面化学分析 扫描探针显微镜数据传送格式

本标准规定了通过并行接口或串行接口经由线缆、局域网、广域网络或其他通信线路将扫描探针显微镜(SPM)数据从计算机传输到计算机的格式。传输的数据采用出现在普通计算机显示器或打印机上的那些字符进行编码。 该格式是为SPM的数据设计的，例如扫描隧道显微镜(STM)、原子力显微镜(AFM)和使用在样品表面上扫描的尖锐探针的相关表面分析方法。本格式涵盖了由单通道成像、多通道成像和单点谱得到的数据，在未来版本中可扩展至二维谱成像。

Surface chemical analysis—Data transfer format for scanning probe microscopy

GB/T 36053-2018 X射线反射法测量薄膜的厚度、密度和界面宽度 仪器要求、准直和定位、数据采集、数据分析和报告

Evaluation of thickness, density and interface width of thin films by X-ray reflectometry—Instrumental requirements, alignment and positioning, data collection, data analysis and reporting