电子束刻蚀 标准查询与下载
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本标准规定了离子束蚀刻机的术语、产品分类、技术要求、试验方法、检验规则以及包装、运输、贮存。 本标准适用于物理溅射腐蚀作用的通用离子束蚀刻机。其他专用离子束蚀刻机亦可参照执行
General specification of ion beam etching system
本标准规定了离子束蚀刻机的术语、产品分类、技术要求、试验方法、检验规则以及包装、运输、贮存等。 本标准适用于物理溅射腐蚀作用的通用离子束蚀刻机。其它专用离子束蚀刻机亦可参照执行
Generic specification of ion beam etching system
Interior graduation for cathode-ray tubes
本标准规定子半导体器件生产用离子束蚀刻机的完好要求和检查、评定方法。 本标准适用于电子产品生产、科研用离子束蚀刻机
Requirements of readiness and methods of inspection and assessment for ion beam etching machines
IPC Standards and Publications are designed to serve the public interest through
Etching
Etching
Electronic engineering materials. Resists for lithography processes. General specifications
本文件规定了刻蚀机用硅电极及硅环的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和随行文件以及订货单内容。 本文件适用于p<100>直拉硅单晶加工成的刻蚀机用直径200 mm~450 mm 的硅电极及硅环
Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine
Aluminum etching foil
Aluminum etching foil
Aluminum etching foil
ETCHING PRIMER
本标准规定了硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂涂层的要求、试验方法等内容。 本标准适用于硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂的涂层检验
Specification for photoresist/E-beam resist for hard surface photoplates
本文件规定了电子雕刻凹版的分类、印版制作信息要求、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存以及质量承诺。 本文件适用于以电子雕刻技术制作的电子雕刻凹版。 本文件不适用于激光直接雕刻制版
Electronic engraved gravure
This method is a means for preparation of test specimens for determination of bare dielectric material quality and properties@ using an alkaline
Alkaline Etching Method
