高纯特种气体的用途（一）

1、氮气-N2，纯度要求>99．999%，用作标准气体、在线仪表标准气、校正气、零点气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、扩散、化学气相淀积、离子注入、等离子干刻、光刻，退火 搭接、烧结等工序；电器、食品包装，化学等工业也要用氮气。

2、氧气-O2,>99．995％，用作标准气体、在线仪表标准气体、校正气、零点气；还可用于医疗气，在半导体器件制备工艺中用于热氧化，扩散、化学气相淀积、等离子干刻等工序，以及用于光导纤维的制备。

3、氩气-Ar，>99．999％，用作标准气体、零点气、平衡气；甩于半导体器件制备工艺中晶体生长、热氧化、外延，扩散、氮化，喷射，等离子干刻、载流、退火搭接，烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氩。

4、氢气-H2,> 99.999%，用作标准气体、零点气、平衡气、校正气、在线仪表标准气; 在半导体器件制备工艺中用于晶体生长，热氧化，外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等工序；在化学，冶金等工业中也有用。

5、氦气-He，>99.999% ，用作标准气体、零点气 平衡气，校正气、医疗气、用于半导体器件错备工艺中晶体生长，等离子干刻 载流等工序；另外，特种混合气与工业混台气也常用．

6、氯气-Cl2，>99.86 ％，用作标准气体，校正气,用于半导体器件制备工艺中晶体生长、等离子干刻、热氧化等工序；另外，用于水净化，纸浆与纺织品的漂白、工业废品、污水、 游泳池的卫生处理，制备许多化学产品。

7、氟气-F2，>98% 用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外，用于制备六氟化铀、六氟化硫、三氟化硼和金属氟化物等。

8、氨气-NH3，>99.995％，用作标准气体(www.kdgc.cn)、校正气、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序，另外，用于制冷、化肥，石油、采矿、橡胶等工业。

9、氯化氢-HCI，>99.995% ，用作标准气体,用于半导休器件制备工艺中外延、热氧化、扩散等工序；另外，用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。

10、一氧化氮-N0，>99％，用作标准气体，校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积工序，制备监控大气污染的标准混合气。

11、二氧化碳-CO2，>99.99% ，用作标准气体、在线仪表标准气体，校正气;用于半导体器件制备工艺中氧化，载流工序，另外，还用于特种混合气、发电，气体置换处理、杀菌气体稀释剂、灭火剂、食品冷冻、金属冷处理 ，饮料充气，烟雾喷射剂，食品贮存保护气等。

12、氧化亚氮-N2O，(即笑气)，>99.999% 用作标准气体、医疗气; 用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、医用麻醉剂、烟雾喷射剂、真空和带压检漏，红外光谱分析仪等也用。

13、硫化氢-H2S，>99.999％，用作标准气体，校正气，用于半导体器件制备工艺中等离子干刻，化学工业中用于制备硫化物，如硫化钠， 硫化有机物；用作溶剂；实验定量分析用。

14、四氯化碳-CCl4,>99.99％，用作标准气体, 用于半导体器件制备工艺中外延，化学气相淀积等工序；另外用作溶剂，有机物的氯化剂，香料的浸出剂，纤维的脱脂剂、灭火剂、分析试剂、制备氯仿和药物等。

15、氰化氢-HCN，>99.9%，用于半导体器件制备工艺中等离子干刻工序；制备氢氰酸溶液；金属氰化物、氰氯化物；也用于制备丙烯腈和丙烯衍生物的合成中间体。

16、碳酰氟-COF2，>99.99% ，用于半导体器件制备工艺中等离子干刻工序；另外；用作氟化剂。

17．碳酰硫-COS，>99.99% ，用作校正气;用于半导体器件制备工艺中离子注入工序; 也用于有些羧基、硫代酸、硫代碳酸盐和噻唑的合成。

18．碘化氢-HI，>99.95% ，用于半导体器件制备工艺中离子注入工序;还用于氢碘酸溶液制备。

19．溴化氢-HBr，>99.9％，用于半导体制备工艺中等离子干刻工序；用作还原剂，制备有机及无机溴化合物。

2O，硅烷-SiH4，>99.999％，电阻率>100Ω /cm² ，用于半导体器件制备工艺中外延、化学气相淀积等工序。

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