基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱在聚合物表征中的应用

《质谱学报》2008年01期    
 
  基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱在聚合物表征中的应用
  王晓青;陈栓虎
  　　综述了基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱(MALDI-TOF MS)的基本原理,基质选择和样品制备方法、分析离子化试剂等因素对实验结果的影响,以及造成质量歧视的原因。并阐述了MALDI技术在确定聚合物相对分子质量分布,聚合物末端基团,共聚物组成和推断反应及降解机理上的应用。
【作者单位】：西北大学化学系 陕西西安710069
【关键词】：基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱;聚合物;分子量;末端基
【分类号】：O657.63;O631.3
【DOI】：CNKI:SUN:ZPXB.0.2008-01-013
【正文快照】：
　　近年来,利用质谱技术研究高分子聚合物结构的方法越来越受到重视。基质辅助激光解吸电离(matrix-assisted laser desorption ioniza-tion,MALDI)和电喷雾电离(electrospray ioni-zation,ESI)技术的发展使得质谱能够精确分析高聚物相对分子质量分布、重复单元、末端基团、重复单