阻垢分散剂配方

上一篇 / 下一篇 2012-09-29 22:46:46 / 精华(1)/ 置顶(1)/ 个人分类：精细化工

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阻垢分散剂配方分析

聚羧酸类阻垢分散剂广泛应用于水资源的利用，禾川化工专业从事阻垢缓蚀剂成分分析，配方还原，配方研制；禾川化工为阻垢缓蚀剂相关企业提供整套技术解决方案一站式服务；苏州禾川化工新材料科技有限公司（简称：禾川技术），为企业，科研的生产研发提供专业化解决方案。禾川技术以苏州大学为产学研基地，融合了中科院有机所、应化所、浙江大学、南京大学、苏州大学、华东理工大学等多家科研机构与高校的外围专家博士团队，依托生物纳米科技园、苏州大学、中科院纳米所强大的仪器测试平台，凭借强大的科研实力，多年丰富的研发经验，共同建立化工材料分析中心，新材料研发中心。禾川技术致力于化工行业材料检测、材料分析、配方还原、新领域新材料的开发；推进新项目整体研发进度，缩短研发周期，推动化工产业自主研发的进程。

　阻垢缓蚀剂种类繁多，通常是一些结构特别化合物的复配，且要根据金属表面状况、腐蚀介质组成及运行情况等因素进行种类选择。在水处理中常用的阻垢剂有无机聚磷酸盐、有机膦酸、膦羧酸、有机膦酸脂、聚羧酸等。

常用的聚合物类水稳剂有丙烯酸-2-丙烯酰胺基-2-甲基丙基磺酸共聚物(AA/AMPS)、聚丙烯酸(PAA)、水解聚马来酸酐(HPMA)、马来酸酐一丙烯酸共聚物(MA/AA)、丙烯酸一丙烯酸酯类共聚物等。

最近市面上又有一种环保型的缓蚀阻垢剂——聚天冬氨酸（PASP），对CaCO₃、CaSO₄·2H₂O、BaSO₄、SrSO₄垢有极其优良的阻垢性能，是一种多功能的阻垢剂，并具有一定的缓蚀性能，可与多种药剂复配组成绿色配方（无磷或低磷）应用前景广阔。

聚天冬氨酸分子中带负电的胺羰功能基团中的氮原子和氧原子与垢盐表面钙离子的静电作用主导了此类阻垢剂与晶面的吸附特性。功能基团的空间位置与特定晶面阳离子间距的匹配性，主导了阻垢剂与垢盐表面的结合性能，从而成为添加剂定量结构-性能相关(QSAR) 研究中的两个关键参量，或至少是对阻垢剂阻垢性能起关键作用的微观参量之一。

1典型阻垢缓蚀剂配方.

成分	代号	含量	说明
硫酸锌	ZnSO₄	7-10%	助剂
氨基三甲叉膦酸	ATMP•4Na	8-15%
聚丙烯酸	PAA	1-3%
丙烯酸-2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸多元共聚物	AA-AMPS	1-4%
聚环氧琥珀酸钠盐	PESA	3-5%
苯并三氮唑	BTA	0.5-2%	缓蚀剂
十二醇无规聚醚		0-1%	低泡性表面活性剂
焦磷酸		0-5%	除垢、调节PH值
水		余量