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清洁剂的主要化学成分是什么

硅片清洗剂的清洗机理与技术特性

硅片清洗剂主要用在单多晶线切割后的硅片表面清洗处理,能有效地清除硅片表面的污染物,使硅片表面洁净如一,特别适用于太阳能硅片清洗,有利于硅片制绒,提高电池片的转化效率。 国内硅片清洗剂主要有三种,分别是单组份清洗剂,双组份清洗剂,多组分清洗剂。 产品配方组成 硅片清洗剂大多数呈碱性液体,主要成分是碱、磷酸盐、硅酸盐、碳酸盐、鳌合剂和表面活性剂。 产品主要特性 (1)对硅片切割液、研磨液等具有较好乳化、分散及清洁作用,且使用寿命长,易于清洗漂洗。 (2)硅片表面不易产生过腐蚀。 (3)中温使用,浓度高、成本低、速度快,效果好。 (4)清洗性能好,清洗后的硅片表面无残留,硅片制绒及光电性能好。 (5)配合超声波,清洗效果更佳。 清洗机理 强碱的皂化作用可以将油脂分解成可溶的物质随清洗液冲走,磷酸盐和硅酸盐都能提供一定的清洁效果。 碳酸盐具有弱碱性,ph值在9-9.5,碳酸盐的主要作用是作为缓冲......

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