高精度薄膜测量设备

应用于IC、半导体制造及科研开发等领域

覆盖生产线上所有非金属薄膜

多参数和多层膜测量

Nanothi 100技术规格

可测薄膜

可测膜层 Oxide、Nitride、BPSG、PR、PI、Polymer、Polysilicon、ITO等
膜层结构 Oxide/Si、PR/Si、Nitride/Si、Polysilicon/Oxide/Si 等单、多层结构
测量参数 T，N，K，R
测量范围 25nm - 20µm (Oxide/Si)

硬件规格

光谱范围 400-800nm
物镜倍率 4X 10X 40X
光斑尺寸 zei小30µm
机械分辨率 X：1µm， Y：1µm， Z：0.04µm

测量指标
250Å－2000Å 2000Å－20µm
准确度 ±1％ ±1％
重复性（3б） 0.75Å 0.05％
稳定性（3б） 2.4Å 0.25％
测量时间 单点 < 3sec， 5点 <30sec

先进的光学测量技术

高精度、高重复性测量

稳定、使用寿命长且低成本的光源

高性能PDA

自动调焦

三维全自动机械平台

贴近生产实际操作习惯的软件系统，为测量提供快捷、方便易用的操作

数据的准确测量与实时评价

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途