美国SVT超高真空磁控溅射系统

美国SVTA公司推出zei具智能化的镀膜设备。
磁控溅射领域zei新突破，实现磁控溅射方式的变革，为磁控溅射增添新的发展空间，是磁控溅射方式的zei新探索。

技术参数：
磁控溅射系统
4-6个磁控靶台
DC源
RF源
Ar气气氛控制
真空度10^-10Torr
1"-4" Substrate

 

 

主要特点：
超高真空磁控溅射
全部配备国外zei先进泵组保证稳定的真空
稳定工作状态
实现磁控溅射方式的分子级薄膜生长

美国SVT超高真空磁控溅射系统信息由美国SVTA公司中国办事处为您提供，如您想了解更多关于美国SVT超高真空磁控溅射系统报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途