刻蚀设备：NLD-570

研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570，是搭载了爱发科独创的磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的装置，此NLD技术可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子。

                   产品特性 / Product characteristics

• NLD用于与ICP方式相比更低压、高密度、更低电子温度等离子体的石英、玻璃、水晶、LN/LT基板的加工

• 高硬玻璃、硼硅酸玻璃等不纯物的多种玻璃加工，在形状或表面平滑性方面有优异的刻蚀性能

• 石英及玻璃作为厚膜resist mask时的也可实现深度刻蚀（100μ m以上）

• 可实现高速刻蚀（石英＞1μ m/min、Pyrex＞0.8μ m/min）

• 可追加cassette室

产品应用 / Product application

• 光学器件（光衍射格子、変调器、光开关等等）

• 凹凸型微透镜

• 流体路径作成或光子学结晶

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途