设备规格工艺温度：温度范围：RT~500°C （可定制）前驱体路数：支持6路前驱体气路（可定制)，包含固、液态前驱体源瓶加热系统：可加热温度范围：RT~150℃......
设备规格工艺温度：温度范围：RT~500°C （可定制）前驱体路数：支持6路前驱体气路（可定制)，包含固、液态前驱体源瓶加热系统：可加热温度范围：RT~150℃......
设备规格工艺温度：温度范围：RT~500°C （可定制）前驱体路数：支持6路前驱体气路（可定制)，包含固、液态前驱体源瓶加热系统：可加热温度范围：RT~150℃......
设备规格可处理样品量：克级工艺温度：温度范围：RT~450°C前驱体路数：支持4路前驱体气路（可定制)，包含固、液态前驱体源瓶加热系统：可加热温度范围：RT~1......
设备规格工艺温度：温度范围：RT~500°C 精度：土1°C（可定制）前驱体路数：支持6路前驱体气路（可定制)，包含固、液态前驱体源瓶加热系统：可加热温度范围：......
设备规格工艺温度：温度范围：RT~400°C 精度：土1°C（可定制）前驱体路数：支持6路前驱体气路（可定制)，包含固、液态前驱体源瓶加热系统：可加热温度范围：......
Exploiter原子层沉积系统是原速科技自主开发的新一代智能化ALD研发系统，广泛适用于纳米材料、微机电系统、催化剂、生物膜材料及光电材料等领域。系统优势&n......
Exploiter E200P原子层沉积系统（粉末颗粒包裹反应腔）是原速科技自主开发的新一代智能化ALD研发系统，可在平面衬底、粉末颗粒表面、高深宽......
Exploiter原子层沉积系统-HV集成传送反应腔是一款具有自主知识产权的新一代自动化高速ALD生产系统，适用于半导体、柔性显示、光学薄膜、太阳能电池及锂电池......
Exploiter原子层沉积系统是一款具有自主知识产权的新一代自动化高速ALD生产系统，适用于半导体、柔性显示、光学薄膜、太阳能电池及锂电池等领域的工业批量化生......
Exploiter原子层沉积系统是一款具有自主知识产权的新一代自动化高速ALD研发系统，适用于半导体、柔性显示、光学薄膜、太阳能电池及锂电池等领域的工业批量化生......
Exploiter原子层沉积系统(HV集成传送反应腔)是一款具有自主知识产权的新一代自动化高速ALD生产系统，适用于半导体、柔性显示、光学薄膜、太阳能电池及锂电......
