工业显微镜 LV100ND/LV100DA-U

新的光学系统令 ECLIPSE焕发新风采

ECLIPSE 显微镜机身采用模块化制造，可满足多领域的工业应用，其中包括半导体器件、封装、FPD、电子器件、材料和精密模具制造等。ECLIPSE LV 系列经过不断的发展完善并配备了新的光学系统和功能，可根据观察方法和目的 选择支架装置和照明装置以满足多种观察需求。用户可选择使用电动和手动操控模式以及反射照明专用模式和反射／透射组合照明模式以满足任何应用需求。 

CFI60-2 经过改进的光学性能 
以独特的高数值孔径和长工作距离设计理念而著称的尼康 CFI60 光学系统 
经过进一步改进，具有一流 的长工作距离、色差校正性能和更轻的重量。 

轻松的操作 
与数码相机集成 现可使用数码控制装置来检测包括物镜信息在内的显微镜信息，以及对显微镜进行电动操作，以更高效地进行观察和图像拍摄。

观察方法 
可支持多种观察方法：明场、暗场、偏光、微分干涉、落射荧光和双光束干涉测量观察功能。此外，LV100DA和LV100DA-U还可提供透射型微分干涉、暗场、偏光和相衬观察功能。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途