400-6699-117转1000
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参考报价: | 面议 | 型号: | MBE+PLD |
品牌: | 暂无 | 产地: | 暂无 |
关注度: | 318 | 信息完整度: | |
样本: | 典型用户: | 暂无 |
400-6699-117转1000
主腔室 | *1、2英寸高真空沉积系统,500mm直径; 2、椭圆形或者半球形,304#不锈钢,金属密封; 3、沉积配置:4个共焦窗口(NW100CF),4个共焦窗口(NW63CF); 4、真空腔壁窗口:1x NW200CF,2x NW150CF,3x NW100CF,1x NW63CF和1x NW100CF做HREED窗口,1x NW63CF,7x NW35CF; *5、真空:1000l/s分子泵,快速机械泵,本底真空好于2e-10torr,真空规x1; *6、整体液氮冷却; 7、2.5kw加热系统; *8、3个10cc以上 Effusion cell; *9、合理的腔体结构设计及机械设计,确保系统可分别运行于MBE模式及PLD模式而无相互干扰。 *10、2英寸衬底上MBE及PLD薄膜厚度的均匀性均优于±5%; |
样品腔和传输 | 1、80l/s分子泵和机械泵 *2、真空优于5e-9torr,真空规x1; 3、手动控制与主腔室的阀门; 4、样品进入时带观察窗口; *5、除气加热装置; |
1100℃加热系统 | *1、1100℃连续钨丝加热,上限1200℃; 2、功率和温度控制; 3、zei大消耗2.5kw; |
样品旋转 | *1、20-80rpm速度; 2、直流电机控制; |
PLD靶材holder及光路 | *1、可水平放置2个1 in的靶材; *2、各靶材可自转及公转,并在Z轴方向可调,确保激光能覆盖整个靶材 *3、靶材温度RT-200 ℃可调 *4、靶材与衬底距离20-200mm可调 *5、PLD光路设计合理,提供一套PLD光学透镜系统。 |
热蒸发源 | 1、共3个:NW63CF 10cc-1300℃; 2、NW100CF 35cc-1300℃; 3、NW100CF 100cc-500℃; *4、3个PBN10cc热蒸发源; 5、电源和阀门,铆合法兰,隔热材料/PBN; |
电子束蒸发 | 1、高真空兼容且能烘烤到250℃; *2、直径57mm,规格NW63CF; 3、4个分立自带高压的和密封的pockets; 4、溅射模式:共溅; 5、直接水冷,流量控制,500wzei大功率; 6、靶材与衬底可调距离:200mm; 7、源材料:直径2mm、长27mm的柱状源或者1cc的坩埚; *8、沉积速率:在靶材与衬底距离100mm时,:优于5nm/min(靶材为柱状),及20nm/min(靶材为坩埚); 9、电动控制阀门; |
RF离子源 | *1、射频源:50mm束斑; 2、标准长度:290mm; *3、zei高功率:600w,13.56MHZ; *4、自动调节,气体有氮气和氢气; 5、超高真空兼容; 6、整合电动控制阀门; |
配件 | 1、替代的硬件; 2、pc机; *3、驱动自动化; |
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