仪器简介：应用领域
常规的光致发光测量；
III-V族化合物半导体材料光致发光测量；
荧光性；
LD, LED外延晶片PL扫描测量；
技术参数：1 、光致发光样品腔
10x M-Plan镜头颜色修正，波长范围：350-1800nm
工作距离：30.5mm, 20mm FL, z轴可调
系统空间分辨率：10微米(1微米选配)
镜子带孔洞作为激光束及PL信号的通道
Iris光圈用于激光束的调整
可变ND过滤器用于激光能量的控制(99% to 2%)
10毫米孔洞PL信号校准镜头
马达控制的XY台，zei大速度30毫米/秒，1微米扫描分辨率
2 & 4外延晶片样品盘
包括高分辨控制器和电缆
2、IG512近红外光谱仪，900-1700nm, 512像素, InGaAs阵列
25um x 500um像素尺寸，14bits, 2.5MHz数字转换器, f/4, 40mm FL
探测范围：900nm全谱，300gr/mm, 1um blaze grating
包括SMA905, 400um多模光纤，1米长
3、EPP2000-VIS(350-1150nm)用于紫外-可见光，衍射光栅光谱仪
f/4, symX-Czerny-turner类型
分辨率：1.6nm (50um狭缝，@600gr/mm grating)
包括2048像素CCD探测器，12bit数字转换器
600gr/mm grating
接口：USB-2&平行
SMA905光纤光学输入，0.22NA，400um多模光纤，1米长
主要特点：高品质及中等价位的PL扫描系统(高性价比)；
波长范围宽广(UV-VIS-NIR, 350nm to 2.2um)；
噪声低，高PL信号探测；
设计紧凑，易于调谐；
各种激发激光源可选；
易于发现峰及FWHM；
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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
