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诚信认证:
工商注册信息已核实!参考报价: | 面议 | 型号: | APD |
品牌: | ADVANCE RIKO | 产地: | 日本 |
关注度: | 19 | 信息完整度: | |
样本: | 典型用户: | 暂无 | |
供应商性质 | 生产商 | 产地类别 | 进口 |
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日本Advance Riko 公司致力于电弧等离子体沉积系统(APD)利用脉冲电弧放电将电导材料离子化,产生高能离子并沉积在基底上,制备纳米级薄膜镀层或纳米颗粒。
电弧等离子体沉积系统利用通过控制脉冲能量,可以在1.5nm到6nm范围内精确控制纳米颗粒直径,活性好,产量高。多种靶材同时制备可生成新化合物。金属/半导体制备同时控制腔体气氛,可以产生氧化物和氮化物薄膜。高能量等离子体可以沉积碳和相关单质体如非晶碳,纳米钻石,碳纳米管 形成新的纳米颗粒催化剂。
主要应用领域:
1、制备新金属化合物,或制备氧化物和氮化物薄膜(氧气和氮气氛围);
2、制备非晶碳,纳米钻石以及碳纳米管的纳米颗粒;
3、形成新的纳米颗粒催化剂(废气催化剂,挥发性有机化合物分解催化剂,光催化剂,燃料电池电极催化剂,制氢催化剂);
4、用热电材料靶材制备热电效应薄膜。
技术原理:
1、在触发电极上加载高电压后,电容中的电荷充到阴极(靶材)上;
2、真空中的阳极和阴极(靶材)间,电子形成了蠕缓放电,并产生放电回路,靶材被加热并形成等离子体;
3、通过磁场控制等离子体照射到基底上,形成薄膜或纳米颗粒。
材料适用性:
APD适用于元素周期表中大部分高导电性金属,合金以及半导体。所用原料为直径10mmX17mm长圆柱体或管状体,且电阻率小于0.01 ohm.cm。下面的元素周期表显示了可制备的材料,绿色代表完全适用,黄色代表在一定条件下适用。
设备特点: | |
1. 系统可以通过调节放电电容选择纳米颗粒直径在1.5nm到6nm范围内。 |
APD制备的Fe-Co纳米颗粒的SEM和EDS图谱 |
系统参数: | |
1. 真空腔尺寸:400X400X300长宽高
APD-P 粉末容器:直径95mm 高30mm
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注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途