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| 参考报价： | 面议 | 型号： | KRI 考夫曼离子源 KDC 100 |
| 品牌： | Atonarp | 产地： | 美国 |
| 关注度： | 20 | 信息完整度： |  |
| 样本： | 典型用户： | 暂无 |
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发布时间：2022年06月
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准
KRI 考夫曼离子源 KDC 100
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 中型规格栅极离子源, 广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中, 考夫曼离子源 KDC 100 采用双阴极灯丝和自对准栅极, 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA.
KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数：
型号 | KDC 100 |
供电 | DC magnetic confinement |
- 阴极灯丝 | 2 |
- 阳极电压 | 0-100V DC |
电子束 | OptiBeam™ |
- 栅极 | 专用, 自对准 |
-栅极直径 | 12 cm |
中和器 | 灯丝 |
电源控制 | KSC 1212 |
配置 | - |
- 阴极中和器 | Filament, Sidewinder Filament 或LFN 2000 |
- 安装 | 移动或快速法兰 |
- 高度 | 9.25' |
- 直径 | 7.6' |
- 离子束 | 聚焦 |
-加工材料 | 金属 |
-工艺气体 | 惰性 |
-安装距离 | 8-36” |
- 自动控制 | 控制4种气体 |
* 可选: 可调角度的支架
KRI 考夫曼离子源 KDC 100 应用领域：
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE
若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :
上海伯东 : 罗先生 台湾伯东 : 王小姐
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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途
