小型溅射仪

磁控溅射优点

(1)沉积速率快,沉积效率高,适合工业生产大规模应用;

(2)基片温度低,适合塑料等不耐高温的基材镀膜;

(3)制备的薄膜纯度高、致密性好、薄膜均匀性好、膜基结合力强;

(4)可制备金属、合金、氧化物等薄膜;

KT-1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途