一、美国OAI公司介绍：

OAI是一家位于美国硅谷的先进精密设备制造商，有着40多年的研发、制造经验。该公司生产的产品用于 MEMS、半导体、纳米技术、微流体、MicroTAS、平板和光伏/太阳能行业。 并提供广泛的经过现场验证的产品组合，包括：掩模对准器、UV 曝光系统、UV 光源、纳米压印模块、晶圆键合机、UV 臭氧表面处理系统、边缘珠曝光系统、晶圆分选机、太阳能模拟器 & IV 测试系统和众多定制设计的解决方案。 这些产品有着良好的性能、高度的多功能性和出色的可靠性，在全球的市场中赢得了客户的青睐。

二、Model 800E紫外掩膜光刻机产品特点：

（1）多种光谱范围可供选择：汞灯：G（436nm）、H（405nm）、I（365nm）和310nm线，Hg-Xe灯：260nm和220nm。

（2）适用基片尺寸范围：4英寸~ 12英寸直径晶圆片；

（3）紫外灯功率范围：200~2000W；

（4）使用上下双CCD Gigi相机和电动X-Y-Z-Theta平台进行手动对准，带操纵杆/配方操作。

（5）通过 Cognex 软件升级升级到 Auto Alignment。

（6）自动楔补偿和带编码器的电动z轴和3点调平升级选项；

（7）红外光学背面对齐选择升级；

（8）使用1TB电脑进行PC操作和配方存储；

（9）接近（20um）：<3.0um，软接触：<2.0um，硬接触：1um，真空接触：≤0.6um。

（10）提供0.5-1um的正反面曝光和对位精度。

（11）可用于半自动化/研发和小批量生产模式。

（12）适用于生物、MEMS、半导体、微流体、纳米压印和CLiPP工艺。

三、OAI的Model 800E紫外掩膜光刻机与 Suss 的 Model MA6光刻机参数对比：

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途