一、美国NXQ紫外掩膜光刻机产品概述：NXQ MASK ALIGNER光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，NXQ4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统......
一、美国OAI公司介绍：OAI是一家位于美国硅谷的先进精密设备制造商，有着40多年的研发、制造经验。该公司生产的产品用于 MEMS、半导体、纳米技术、微流体、M......
一、URE-2000/35紫外掩膜光刻机产品特征：URE-2000/35采用自动找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能，自动分离对准......
一、URE-2000A型紫外掩膜式光刻机技术参数1. 曝光面积：150mmX150mm2. 曝光波长：365nm3. 分辨率：0.8~1μm （胶厚 2μm的正......
扫一扫即可访问手机版展台
